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用長(zhǎng)焦頭拍攝遠(yuǎn)處景物，影像質(zhì)量受天氣影響較大，紫外線、塵埃和水汽都會(huì)使影像清晰度下降、反差變?nèi)鹾蜕什伙柡?。因此，用長(zhǎng)焦頭拍攝遠(yuǎn)處景物時(shí)，比較好要選擇反差較大、色彩較飽和的景物做拍攝對(duì)象。此外，攝影時(shí)可用UV鏡、天光鏡或偏振鏡來(lái)提高影像清晰度；若是黑白攝影，還...

1、廣角鏡頭拍攝的景物，近處大、遠(yuǎn)處小，******效果夸張。被攝體越靠近鏡頭夸張?jiān)矫黠@。所以，拍攝人像時(shí)，人物不能靠相機(jī)太近，否則很容易拍出“肥鼻鼠耳”的變形照片。當(dāng)然，利用這種效果拍攝的藝術(shù)作品除外，例如《拉選票的手》，就是一張非常***的照片。用廣角鏡頭...

2019年荷蘭阿斯麥公司推出新一代極紫外光刻系統(tǒng)，**了當(dāng)今**的第五代光刻系統(tǒng)，可望將摩爾定律物理極限推向新的高度 [5]。中國(guó)工程院《Engineering》期刊于2021年組建跨學(xué)科評(píng)選委員會(huì)，通過(guò)全球**提名、公眾問(wèn)卷等多階段評(píng)審，選定近五年內(nèi)完成且具...

鏡頭的改變：在相同物距 和光圈的情況下，使用不同焦距的鏡頭可改變景深，鏡頭焦距越短，**深越大，對(duì)于超廣角鏡（8---15毫米），景深非常大，以致無(wú)需調(diào)焦，因?yàn)槊恳患?jí)光圈的景深都是清晰。光學(xué)工業(yè)鏡頭***用于反射度極高的物體定位檢測(cè)，如：金屬、玻璃、膠片、晶片...

25.模墊拆卸分解及清潔檢查各磨耗面與重新涂抹潤(rùn)滑脂后組裝試車(chē).1、沖床工必須經(jīng)過(guò)學(xué)習(xí)，掌握沖床的結(jié)構(gòu)、性能，熟悉操作規(guī)程并取得操作許可方可**操作。2、正確使用沖床上安全保護(hù)和控制裝置，不得任意拆動(dòng)。3、檢查沖床各傳動(dòng)、連接、潤(rùn)滑等部位及防護(hù)保險(xiǎn)裝置是否正常...

四是，鏡頭的焦距越長(zhǎng)，相機(jī)就必須把握得越穩(wěn)定，以避免影像模糊。經(jīng)驗(yàn)準(zhǔn)則是只有當(dāng)快門(mén)速度至少等于鏡頭焦距毫米數(shù)的倒數(shù)時(shí)才能夠手持鏡頭進(jìn)行拍攝，也稱(chēng)為“安全快門(mén)”。也就是說(shuō)，當(dāng)快門(mén)速度低于1/100秒時(shí)就不能手持100mm鏡頭拍攝，低于1/500秒時(shí)就不能手持50...

決定光刻膠涂膠厚度的關(guān)鍵參數(shù)：光刻膠的黏度（Viscosity），黏度越低，光刻膠的厚度越??；旋轉(zhuǎn)速度，速度越快，厚度越薄；影響光刻膠均勻性的參數(shù)：旋轉(zhuǎn)加速度，加速越快越均勻；與旋轉(zhuǎn)加速的時(shí)間點(diǎn)有關(guān)。一般旋涂光刻膠的厚度與曝光的光源波長(zhǎng)有關(guān)（因?yàn)椴煌?jí)別的曝光...

后烘方法：熱板，110～130C,1分鐘。目的：a、減少駐波效應(yīng)；b、激發(fā)化學(xué)增強(qiáng)光刻膠的PAG產(chǎn)生的酸與光刻膠上的保護(hù)基團(tuán)發(fā)生反應(yīng)并移除基團(tuán)使之能溶解于顯影液。顯影方法：a、整盒硅片浸沒(méi)式顯影（Batch Development）。缺點(diǎn)：顯影液消耗很大；顯影...

浸沒(méi)式光刻機(jī)是通過(guò)在物鏡與晶圓之間注入超純水，等效縮短光源波長(zhǎng)并提升數(shù)值孔徑，從而實(shí)現(xiàn)更高分辨率的半導(dǎo)體制造**設(shè)備。2024年9月工信部文件顯示，國(guó)產(chǎn)氟化氬浸沒(méi)式光刻機(jī)套刻精度已達(dá)到≤8nm水平。該技術(shù)研發(fā)涉及浸液系統(tǒng)、光學(xué)控制等多項(xiàng)復(fù)雜工藝，林本堅(jiān)團(tuán)隊(duì)在浸...

制造掩模版，比較靈活。但由于其曝光效率低，主要用于實(shí)驗(yàn)室小樣品納米制造。而電子束曝光要適應(yīng)大批量生產(chǎn)，如何進(jìn)一步提高曝光速度是個(gè)難題。為了解決電子束光刻的效率問(wèn)題，通常將其與其他光刻技術(shù)配合使用。例如為解決曝光效率問(wèn)題，通常采用電子束光刻與光學(xué)光刻進(jìn)行匹配與混...

鏡頭的另一個(gè)重點(diǎn)在變焦能力。所謂的變焦能力包括光學(xué)變焦（optical zoom）與數(shù)碼變焦（digital zoom）兩種。兩者雖然都有助于望遠(yuǎn)拍攝時(shí)放大遠(yuǎn)方物體，但是只有光學(xué)變焦可以支持圖像主體成像后，增加更多的像素，讓主體不但變大，同時(shí)也相對(duì)更清晰。通常...

廣角鏡頭的基本特點(diǎn)是，鏡頭視角大，視野寬闊。從某一視點(diǎn)觀察到的景物范圍要比人眼在同一視點(diǎn)所看到的大得多；景深長(zhǎng)，可以表現(xiàn)出相當(dāng)大的清晰范圍；能強(qiáng)調(diào)畫(huà)面的******效果，善于夸張前景和表現(xiàn)景物的遠(yuǎn)近感，這有利于增強(qiáng)畫(huà)面的***力。 [1]焦距比標(biāo)準(zhǔn)鏡頭 短，但...

艾倫·布隆萊一個(gè)和普賴(lài)斯有差異的重建模型是由澳大利亞悉尼大學(xué)的計(jì)算機(jī)科學(xué)家艾倫·布隆萊和悉尼的一位鐘表師法蘭克·帕西瓦爾建立。布隆萊和麥可·萊特合作使用更精密的X光影像重建新的模型。麥可·萊特曾擔(dān)任倫敦科學(xué)博物館機(jī)械部門(mén)主管，現(xiàn)任職于帝國(guó)理工學(xué)院的麥可·萊特和...

魚(yú)眼鏡頭的體積較大。以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的魚(yú)眼鏡頭為例，當(dāng)將這種魚(yú)眼鏡頭安裝在體積較小的35毫米單鏡頭反光照相機(jī)機(jī)身上時(shí)，有一種“頭（鏡頭）大身體（機(jī)身）小”的感覺(jué)，且由于魚(yú)眼鏡頭重量不輕（如尼柯?tīng)?毫米/F2.8手動(dòng)對(duì)焦魚(yú)眼鏡頭重達(dá)5200克），...

CS型鏡頭With a 5 mm adapter ring, a C lens can be used on a CS-mount camera.U型鏡頭一種可變焦距的鏡頭，其法蘭焦距為47.526mm或1.7913in，安裝羅紋為M42×1。主要設(shè)計(jì)作35m...

商用或家用數(shù)碼相機(jī)的鏡頭，部分廠家采用了相對(duì)比較好的鏡頭。富士相機(jī)采用了170線/毫米解析度的專(zhuān)業(yè)富士龍鏡頭，這種內(nèi)置的新型富士龍鏡頭比大多數(shù)SLR鏡頭更清晰。不僅在精度上保證了圖象拍攝的品質(zhì)，而且其鏡頭錯(cuò)誤率也達(dá)到令人驚異的0.3%, 較一般的數(shù)碼相機(jī)低2/...

涂底方法：a、氣相成底膜的熱板涂底。HMDS蒸氣淀積，200～250C,30秒鐘；優(yōu)點(diǎn)：涂底均勻、避免顆粒污染；b、旋轉(zhuǎn)涂底。缺點(diǎn)：顆粒污染、涂底不均勻、HMDS用量大。目的：使表面具有疏水性，增強(qiáng)基底表面與光刻膠的黏附性旋轉(zhuǎn)涂膠方法：a、靜態(tài)涂膠（Stati...

25.模墊拆卸分解及清潔檢查各磨耗面與重新涂抹潤(rùn)滑脂后組裝試車(chē).1、沖床工必須經(jīng)過(guò)學(xué)習(xí)，掌握沖床的結(jié)構(gòu)、性能，熟悉操作規(guī)程并取得操作許可方可**操作。2、正確使用沖床上安全保護(hù)和控制裝置，不得任意拆動(dòng)。3、檢查沖床各傳動(dòng)、連接、潤(rùn)滑等部位及防護(hù)保險(xiǎn)裝置是否正常...

為把193i技術(shù)進(jìn)一步推進(jìn)到32和22nm的技術(shù)節(jié)點(diǎn)上，光刻**一直在尋找新的技術(shù)，在沒(méi)有更好的新光刻技術(shù)出現(xiàn)前，兩次曝光技術(shù)（或者叫兩次成型技術(shù)，DPT）成為人們關(guān) 注 的 熱 點(diǎn)。ArF浸沒(méi)式兩次曝光技術(shù)已被業(yè)界認(rèn)為是32nm節(jié)點(diǎn)相當(dāng)有競(jìng)爭(zhēng)力的技術(shù)；在更低...

世界上***部糾偏裝置,英文：Deviation rectifying device，是美塞斯的FIFE糾發(fā)明的，是糾偏裝置是電子糾偏系統(tǒng)的心臟。糾偏裝置是一種修正卷材在向前運(yùn)動(dòng)中出現(xiàn)的側(cè)邊誤差的機(jī)械裝置，位移式糾偏是通過(guò)更改卷材在進(jìn)口和出口跨度來(lái)實(shí)現(xiàn)卷材側(cè)邊...

2.該機(jī)械有一個(gè)刻上至少2000個(gè)字母的蓋子，因此安提基特拉機(jī)械研究計(jì)劃的人員經(jīng)常認(rèn)為這是儀器說(shuō)明書(shū)。這**是為了便于攜帶和個(gè)人使用。3.“說(shuō)明書(shū)”的存在**該裝置是科學(xué)家和工程師設(shè)計(jì)作為非專(zhuān)業(yè)的旅行者使用。（記載文字有許多關(guān)于地中海的地理位置資訊）該機(jī)械不太...

所有實(shí)際電子束曝光、顯影后圖形的邊緣要往外擴(kuò)展，這就是所謂的“電子束鄰近效應(yīng)。同時(shí)，半導(dǎo)體基片上如果有絕緣的介質(zhì)膜，電子通過(guò)它時(shí)也會(huì)產(chǎn)生一定量的電荷積累，這些積累的電荷同樣會(huì)排斥后續(xù)曝光的電子，產(chǎn)生偏移，而不導(dǎo)電的絕緣體（如玻璃片）肯定不能采用電子束曝光。還有...

世界三 大光刻機(jī) 生產(chǎn)商ASML，Nikon和Cannon的*** 代 浸 沒(méi) 式 光 刻 機(jī) 樣 機(jī) 都 是 在 原 有193nm干式光刻機(jī)的基礎(chǔ)上改進(jìn)研制而成，**降低了研發(fā)成本和風(fēng)險(xiǎn)。因?yàn)榻](méi)式光刻系統(tǒng)的原理清晰而且配合現(xiàn)有的光刻技術(shù)變動(dòng)不大，目前193...

光刻系統(tǒng)是一種用于半導(dǎo)體器件制造的精密科學(xué)儀器，是制備高性能光電子和微電子器件不可或缺的**工藝設(shè)備 [1] [6-7]。其技術(shù)發(fā)展歷經(jīng)紫外（UV）、深紫外（DUV）到極紫外（EUV）階段，推動(dòng)集成電路制程不斷進(jìn)步 [3] [6]。當(dāng)前**的EUV光刻系統(tǒng)已實(shí)...

46、墊板墊板是介于固定板（或凹模）與模座間的淬硬板狀零件，用以減低模座承受的單位壓縮應(yīng)力。A.每使用1500-2000小時(shí)維護(hù)保養(yǎng)應(yīng)執(zhí)行項(xiàng)目:1.滑潤(rùn)油脂吐出油量及壓力檢知功能測(cè)試與調(diào)整.2.空氣系統(tǒng)之濾清器,給油器調(diào)整閥等功能及水份雜質(zhì)測(cè)試檢查與必要調(diào)整....

現(xiàn)代學(xué)者的共識(shí)是該機(jī)械是在希臘語(yǔ)使用區(qū)域制造，所有機(jī)械上組件的文字都是通用希臘語(yǔ)。一種假說(shuō)認(rèn)為，該機(jī)械是在希臘當(dāng)時(shí)的天文和機(jī)械工程中心羅德島上的斯多亞學(xué)派學(xué)者波希多尼制造，而天文學(xué)家喜帕恰斯參與了設(shè)計(jì)，因?yàn)樵摍C(jī)械采用了喜帕恰斯的月球運(yùn)動(dòng)理論。但由安提基特拉機(jī)械...

c、水坑（旋覆浸沒(méi)）式顯影（Puddle Development）。噴覆足夠（不能太多，**小化背面濕度）的顯影液到硅片表面，并形成水坑形狀（顯影液的流動(dòng)保持較低，以減少邊緣顯影速率的變化）。硅片固定或慢慢旋轉(zhuǎn)。一般采用多次旋覆顯影液：***次涂覆、保持10～...

46、墊板墊板是介于固定板（或凹模）與模座間的淬硬板狀零件，用以減低模座承受的單位壓縮應(yīng)力。A.每使用1500-2000小時(shí)維護(hù)保養(yǎng)應(yīng)執(zhí)行項(xiàng)目:1.滑潤(rùn)油脂吐出油量及壓力檢知功能測(cè)試與調(diào)整.2.空氣系統(tǒng)之濾清器,給油器調(diào)整閥等功能及水份雜質(zhì)測(cè)試檢查與必要調(diào)整....

能強(qiáng)調(diào)前景和突出遠(yuǎn)近對(duì)比。這是廣角鏡頭的另一個(gè)重要性能。所謂強(qiáng)調(diào)前景和突出遠(yuǎn)近對(duì)比，是指廣角鏡頭能比其他鏡頭更加強(qiáng)調(diào)近大遠(yuǎn)小的對(duì)比度。也就是說(shuō)，用廣角鏡頭拍出來(lái)的照片，近的東西更大，遠(yuǎn)的東西更小，從而讓人感到拉開(kāi)了距離，在縱深方向上產(chǎn)生強(qiáng)烈的******效果。...

主要流程光復(fù)印工藝的主要流程如圖2：曝光方式常用的曝光方式分類(lèi)如下：接觸式曝光和非接觸式曝光的區(qū)別，在于曝光時(shí)掩模與晶片間相對(duì)關(guān)系是貼緊還是分開(kāi)。接觸式曝光具有分辨率高、復(fù)印面積大、復(fù)印精度好、曝光設(shè)備簡(jiǎn)單、操作方便和生產(chǎn)效率高等特點(diǎn)。但容易損傷和沾污掩模版和...