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對(duì)于新影像的進(jìn)一步研究促使萊特提出新看法。首先他將普萊斯的模式進(jìn)一步發(fā)展，認(rèn)為該儀器相當(dāng)于一個(gè)天象儀。萊特的天象儀不只可模擬日月運(yùn)動(dòng)，還可顯示內(nèi)側(cè)行星（水星和金星）和外側(cè)行星（火星、木星和土星）的運(yùn)動(dòng)。萊特提出該機(jī)械的日月運(yùn)動(dòng)是基于喜帕恰斯的理論，五顆古典行星...

1971年，當(dāng)時(shí)是耶魯大學(xué)科學(xué)史**阿瓦隆講座教授的普萊斯和希臘德謨克利特國(guó)家科學(xué)研究中心的核物理學(xué)家哈拉蘭伯斯·卡拉卡洛斯合作?？ɡ逅故褂觅ゑR射線和X射線對(duì)安提基特拉機(jī)械攝影，得知了其內(nèi)部配置的關(guān)鍵訊息。1974年時(shí)普萊斯發(fā)表文章“來(lái)自希臘的齒輪裝置：安...

英特爾高級(jí)研究員兼技術(shù)和制造部先進(jìn)光刻技術(shù)總監(jiān)YanBorodovsky在去年說(shuō)過(guò)“針對(duì)未來(lái)的IC設(shè)計(jì)，我認(rèn)為正確的方向是具有互補(bǔ)性的光刻技術(shù)。193納米光刻是當(dāng)前能力**強(qiáng)且**成熟的技術(shù)，能夠滿足精確度和成本要求，但缺點(diǎn)是分辨率低。利用一種新技術(shù)作為193...

光學(xué)鏡頭是機(jī)器視覺(jué)系統(tǒng)中必不可少的部件，直接影響成像質(zhì)量的優(yōu)劣，影響算法的實(shí)現(xiàn)和效果。光學(xué)鏡頭從焦距上可分為短焦鏡頭、中焦鏡頭，長(zhǎng)焦鏡頭；從視場(chǎng)大小分為廣角、標(biāo)準(zhǔn)，遠(yuǎn)攝鏡頭；從結(jié)構(gòu)上分為固定光圈定焦鏡頭，手動(dòng)光圈定焦鏡頭，自動(dòng)光圈定焦鏡頭，手動(dòng)變焦鏡頭、自動(dòng)變...

33、固定板固定板是固定凸模的板狀零件。34、固定卸料板固定卸料板是固定在沖模上位置不動(dòng)的卸料板。(參閱“卸料板”)。35、固定擋料銷（板）固定擋料銷（板）是在模具內(nèi)固定不動(dòng)的擋料銷（板）。(參閱“擋料銷（板）”)。36、卸件器卸件器是從凸模外表面卸脫工（序）...

舉例來(lái)說(shuō)，對(duì)某一確定的被攝體，水平方向需要200個(gè)像素才能再現(xiàn)其細(xì)節(jié)，如果成像寬度為10mm，則光學(xué)分辨率為20線/mm的鏡頭就能勝任，如果成像寬度為1mm，則要求鏡頭的光學(xué)分辨率必須在200線/毫米以上。另一方面，傳統(tǒng)膠卷對(duì)紫外線比較敏感，外拍時(shí)常需要加裝U...

校準(zhǔn)的基本要求校準(zhǔn)應(yīng)滿足的基本要求如下：1.環(huán)境條件校準(zhǔn)如在檢定(校準(zhǔn))室進(jìn)行，則環(huán)境條件應(yīng)滿足實(shí)驗(yàn)室要求的溫度、濕度等規(guī)定。校準(zhǔn)如在現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行，則環(huán)境條件以能滿足儀表現(xiàn)場(chǎng)使用的條件為準(zhǔn)。2.儀器作為校準(zhǔn)用的標(biāo)準(zhǔn)儀器其誤差限應(yīng)是被校表誤差限的1/3~1/10。3...

廣角鏡頭的基本特點(diǎn)是，鏡頭視角大，視野寬闊。從某一視點(diǎn)觀察到的景物范圍要比人眼在同一視點(diǎn)所看到的大得多；景深長(zhǎng)，可以表現(xiàn)出相當(dāng)大的清晰范圍；能強(qiáng)調(diào)畫面的******效果，善于夸張前景和表現(xiàn)景物的遠(yuǎn)近感，這有利于增強(qiáng)畫面的***力。 [1]焦距比標(biāo)準(zhǔn)鏡頭 短，但...

魚眼鏡頭的體積較大。以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的魚眼鏡頭為例，當(dāng)將這種魚眼鏡頭安裝在體積較小的35毫米單鏡頭反光照相機(jī)機(jī)身上時(shí)，有一種“頭（鏡頭）大身體（機(jī)身）小”的感覺(jué)，且由于魚眼鏡頭重量不輕（如尼柯爾6毫米/F2.8手動(dòng)對(duì)焦魚眼鏡頭重達(dá)5200克），...

光刻機(jī)系統(tǒng)是材料科學(xué)領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備，通過(guò)光學(xué)成像原理將掩模版上的微細(xì)圖形精確轉(zhuǎn)移到光刻膠表面。系統(tǒng)配置1Kw近紫外光源與6V/30W顯微鏡燈適配器，配備氣動(dòng)防震臺(tái)保障精密操作環(huán)境，其技術(shù)參數(shù)截至2020年11月24日仍在使用 [1]。通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)將掩模版上的...

光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對(duì)半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開孔，以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測(cè)等工序。硅片清洗烘干方...

目前，安提基特拉機(jī)械已被基本復(fù)原。 [5]以下是托尼·弗里思研究團(tuán)隊(duì)的***復(fù)原成果。安提基特拉裝置的制作者無(wú)論使用什么周期數(shù)據(jù)，都需要遵循三個(gè)標(biāo)準(zhǔn)：精確性、可分解性與經(jīng)濟(jì)性。簡(jiǎn)省且高效，是安提基特拉裝置齒輪傳動(dòng)系統(tǒng)的一個(gè)關(guān)鍵特征。新的行星周期數(shù)據(jù)可以納入齒輪...

特點(diǎn)長(zhǎng)焦鏡頭以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的交換鏡頭為例，遠(yuǎn)攝鏡頭通常是指焦距約在80至400毫米之間的攝影鏡頭。遠(yuǎn)攝鏡頭**基本的特點(diǎn)是，鏡頭視角小，所以視野范圍相對(duì)狹窄；能把遠(yuǎn)處的景物拉近，使之充滿畫面，具有“望遠(yuǎn)”的功能，從而使景物的遠(yuǎn)近感消失；縮短了...

校準(zhǔn)的基本要求校準(zhǔn)應(yīng)滿足的基本要求如下：1.環(huán)境條件校準(zhǔn)如在檢定(校準(zhǔn))室進(jìn)行，則環(huán)境條件應(yīng)滿足實(shí)驗(yàn)室要求的溫度、濕度等規(guī)定。校準(zhǔn)如在現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行，則環(huán)境條件以能滿足儀表現(xiàn)場(chǎng)使用的條件為準(zhǔn)。2.儀器作為校準(zhǔn)用的標(biāo)準(zhǔn)儀器其誤差限應(yīng)是被校表誤差限的1/3~1/10。3...

e、光刻膠厚度控片（PhotoResist Thickness MC）：光刻膠厚度測(cè)量；f、光刻缺陷控片（PDM，Photo Defect Monitor）：光刻膠缺陷監(jiān)控。舉例：0.18μm的CMOS掃描步進(jìn)光刻工藝。光源：KrF氟化氪DUV光源（248nm...

**普通的正膠顯影液是四甲基氫氧化銨（TMAH）（標(biāo)準(zhǔn)當(dāng)量濃度為0.26，溫度15～25C）。在I線光刻膠曝光中會(huì)生成羧酸，TMAH顯影液中的堿與酸中和使曝光的光刻膠溶解于顯影液，而未曝光的光刻膠沒(méi)有影響；在化學(xué)放大光刻膠（CAR，Chemical Ampli...

西塞羅的著作《論共和國(guó)》，一本西元前一世紀(jì)的哲學(xué)對(duì)話錄，提及兩個(gè)現(xiàn)代被認(rèn)為是某種天象儀或太陽(yáng)系儀的儀器，可以預(yù)測(cè)日月和五顆行星在天球的位置。這兩個(gè)儀器都是由阿基米德制造，在阿基米德于西元前212年的敘拉古圍城戰(zhàn)身亡后，這兩臺(tái)機(jī)器被羅馬將領(lǐng)馬庫(kù)斯·克勞迪烏斯·馬...

28、頂板頂板是在凹模或模塊內(nèi)活動(dòng)的板狀零件，以向上動(dòng)作直接或間接頂出工（序）件或廢料。29、齒圈齒圈是精沖凹?；驇X壓料板上的成圈齒形突起，是凹?；驇X壓料板的局部結(jié)構(gòu)而不是單獨(dú)的零件。30、限位套限位套是用于限制沖模**小閉合高度的管狀零件，一般套于導(dǎo)柱外...

入門的定焦鏡頭當(dāng)然以50為優(yōu)先。古典的三鏡組合是這樣子的：35、50、135，有了這三個(gè)鏡頭，足可應(yīng)付大多數(shù)的場(chǎng)合需要。日后若有需要，再作擴(kuò)充。定焦鏡頭另外提供幾個(gè)不同的組合給大家參考。愛(ài)拍風(fēng)景的人可以考慮的三鏡組合為24、35（用35代替50）、135。愛(ài)拍...

世界三 大光刻機(jī) 生產(chǎn)商ASML，Nikon和Cannon的*** 代 浸 沒(méi) 式 光 刻 機(jī) 樣 機(jī) 都 是 在 原 有193nm干式光刻機(jī)的基礎(chǔ)上改進(jìn)研制而成，**降低了研發(fā)成本和風(fēng)險(xiǎn)。因?yàn)榻](méi)式光刻系統(tǒng)的原理清晰而且配合現(xiàn)有的光刻技術(shù)變動(dòng)不大，目前193...

EUV光刻技術(shù)的發(fā)展能否趕得上集成電路制造技術(shù)的要求？這仍然是一個(gè)問(wèn)題。當(dāng)然，EUV光刻技術(shù)的進(jìn)步也是巨大的。截止2016年，用于研發(fā)和小批量試產(chǎn)的EUV光刻機(jī)，已經(jīng)被安裝在晶圓廠，并投入使用 [1]。EUV光刻所能提供的高分辨率已經(jīng)被實(shí)驗(yàn)所證實(shí)。光刻機(jī)供應(yīng)商...

手動(dòng)光圈變焦鏡頭焦距可變的，有一個(gè)焦距調(diào)整環(huán)，可以在一定范圍內(nèi)調(diào)整鏡頭的焦距，其可變比一般為2 ～3倍，焦距一般為3.6~8mm。實(shí)際應(yīng)用中，可通過(guò)手動(dòng)調(diào)節(jié)鏡頭的變焦環(huán)，可以方便地選擇被監(jiān)視地市場(chǎng)的市場(chǎng)角。但是當(dāng)攝像機(jī)安裝位置固定下以后，在頻繁地手動(dòng)調(diào)整變焦是...

38、卸料螺釘卸料螺釘是固定在彈壓卸料板上的螺釘，用于限制彈壓卸料板的靜止位置。39、單工序模單工序模是在壓力機(jī)一次行程中只完成一道工序的沖模。40、廢料切刀廢料切刀有兩種。1．裝于拉深件凸緣切邊模上用于割斷整圈切邊廢料以利***的切刀。2．裝于壓力機(jī)或模具上...

EUV光刻系統(tǒng)的發(fā)展歷經(jīng)應(yīng)用基礎(chǔ)研究至量產(chǎn)四個(gè)階段，其突破得益于多元主體協(xié)同創(chuàng)新和全產(chǎn)業(yè)鏈資源整合 [3]。截至2024年12月，EUV技術(shù)已應(yīng)用于2nm芯片量產(chǎn)，但仍需優(yōu)化光源和光刻膠性能。下一代技術(shù)如納米壓印和定向自組裝正在研發(fā)中 [6]。**光刻系統(tǒng)主要...

浸沒(méi)式光刻機(jī)是通過(guò)在物鏡與晶圓之間注入超純水，等效縮短光源波長(zhǎng)并提升數(shù)值孔徑，從而實(shí)現(xiàn)更高分辨率的半導(dǎo)體制造**設(shè)備。2024年9月工信部文件顯示，國(guó)產(chǎn)氟化氬浸沒(méi)式光刻機(jī)套刻精度已達(dá)到≤8nm水平。該技術(shù)研發(fā)涉及浸液系統(tǒng)、光學(xué)控制等多項(xiàng)復(fù)雜工藝，林本堅(jiān)團(tuán)隊(duì)在浸...

11、導(dǎo)柱導(dǎo)柱是為上、下模座相對(duì)運(yùn)動(dòng)提供精密導(dǎo)向的圓柱形零件，多數(shù)固定在下模座，與固定在上模座的導(dǎo)套配合使用。12、導(dǎo)正銷導(dǎo)正銷是伸入材料孔中導(dǎo)正其在凹模內(nèi)位置的銷形零件。13、導(dǎo)板模導(dǎo)板模是以導(dǎo)板作導(dǎo)向的沖模，模具使用時(shí)凸模不脫離導(dǎo)板。14、導(dǎo)料板導(dǎo)料板是引...

入門的定焦鏡頭當(dāng)然以50為優(yōu)先。古典的三鏡組合是這樣子的：35、50、135，有了這三個(gè)鏡頭，足可應(yīng)付大多數(shù)的場(chǎng)合需要。日后若有需要，再作擴(kuò)充。定焦鏡頭另外提供幾個(gè)不同的組合給大家參考。愛(ài)拍風(fēng)景的人可以考慮的三鏡組合為24、35（用35代替50）、135。愛(ài)拍...

廣角鏡頭是一種焦距短于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭、視角大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭、焦距長(zhǎng)于魚眼鏡頭、視角小于魚眼鏡頭的攝影鏡頭。廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。普通廣角鏡頭的焦距一般為38－24毫米，視角為60－84度；超廣角鏡頭的焦距為20－13毫米，視角為94-118度。由于...

德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯經(jīng)過(guò)前人數(shù)十年為了了解該裝置的研究后，1951年英國(guó)科學(xué)歷史學(xué)家德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯對(duì)該機(jī)械進(jìn)行了系統(tǒng)性研究。普萊斯以標(biāo)題“時(shí)鐘以前的發(fā)條裝置”（Clockwork before the Clock）和“發(fā)條裝置的由來(lái)”（O...

**普通的正膠顯影液是四甲基氫氧化銨（TMAH）（標(biāo)準(zhǔn)當(dāng)量濃度為0.26，溫度15～25C）。在I線光刻膠曝光中會(huì)生成羧酸，TMAH顯影液中的堿與酸中和使曝光的光刻膠溶解于顯影液，而未曝光的光刻膠沒(méi)有影響；在化學(xué)放大光刻膠（CAR，Chemical Ampli...