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目 前EUV技 術(shù) 采 用 的 曝 光 波 長 為13．5nm，由于其具有如此短的波長，所有光刻中不需要再使用光學(xué)鄰近效應(yīng)校正（OPC）技術(shù)，因而它可以把光刻技術(shù)擴(kuò)展到32nm以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)。2009年9月Intel*** 次 向 世 人 展 示 了22 nm工...

早在80年代，極紫外光刻技術(shù)就已經(jīng)開始理論的研究和初步的實(shí) 驗(yàn)，該技術(shù) 的光源是波 長 為11～14 nm的極端遠(yuǎn)紫外光，其原理主要是利用曝光光源極短的波長達(dá)到提高光刻技術(shù)分辨率的目的。由于所有的光學(xué)材料對該波長的光有強(qiáng)烈的吸收，所以只能采取反射式的光路。EU...

使用長焦鏡頭拍攝時(shí)，測光比較好采用機(jī)內(nèi)TTL測光方式。因?yàn)?，普通的入射式或反射式測光表的受光角往往大于鏡頭視角，直接按測光表數(shù)值曝光會出現(xiàn)偏差 [6]。1、使用較高快門速度高速快門可以降低或避免相機(jī)抖動造成的圖像發(fā)虛。尤其是手持相機(jī)時(shí)，應(yīng)首先考慮通過提高快門速...

得指出的是，EUV光刻技術(shù)的研發(fā)始于20世紀(jì)80年代。**早希望在半周期為70nm的節(jié)點(diǎn)（對應(yīng)邏輯器件130nm節(jié)點(diǎn)）就能用上EUV光刻機(jī) [1]?？墒牵@一技術(shù)一直達(dá)不到晶圓廠量產(chǎn)光刻所需要的技術(shù)指標(biāo)和產(chǎn)能要求。一拖再拖，直到2016年，EUV光刻機(jī)仍然沒能...

主要技術(shù)指標(biāo)：○精密壓力表測量范圍、精確度等級○型號、彈簧管材料、測量范圍MPa、精確度等級、結(jié)構(gòu)特點(diǎn)○精密壓力表使用環(huán)境條件：5～40℃，相對濕度不大于80%，且環(huán)境震動和壓力源的波動對儀表的精確讀數(shù)無影響?！鹁軌毫Ρ頊囟扔绊懀菏褂铆h(huán)境溫度如偏離20±3℃...

廣角鏡頭的基本特點(diǎn)是，鏡頭視角大，視野寬闊。從某一視點(diǎn)觀察到的景物范圍要比人眼在同一視點(diǎn)所看到的大得多；景深長，可以表現(xiàn)出相當(dāng)大的清晰范圍；能強(qiáng)調(diào)畫面的******效果，善于夸張前景和表現(xiàn)景物的遠(yuǎn)近感，這有利于增強(qiáng)畫面的***力。 [1]焦距比標(biāo)準(zhǔn)鏡頭 短，但...

艾倫·布隆萊一個(gè)和普賴斯有差異的重建模型是由澳大利亞悉尼大學(xué)的計(jì)算機(jī)科學(xué)家艾倫·布隆萊和悉尼的一位鐘表師法蘭克·帕西瓦爾建立。布隆萊和麥可·萊特合作使用更精密的X光影像重建新的模型。麥可·萊特曾擔(dān)任倫敦科學(xué)博物館機(jī)械部門主管，現(xiàn)任職于帝國理工學(xué)院的麥可·萊特和...

光學(xué)鏡頭是機(jī)器視覺系統(tǒng)中必不可少的部件，直接影響成像質(zhì)量的優(yōu)劣，影響算法的實(shí)現(xiàn)和效果。光學(xué)鏡頭從焦距上可分為短焦鏡頭、中焦鏡頭，長焦鏡頭；從視場大小分為廣角、標(biāo)準(zhǔn)，遠(yuǎn)攝鏡頭；從結(jié)構(gòu)上分為固定光圈定焦鏡頭，手動光圈定焦鏡頭，自動光圈定焦鏡頭，手動變焦鏡頭、自動變...

景深范圍隨著鏡頭對被攝體聚焦，可在固定參看符號兩邊尋找對應(yīng)于（或接近）己調(diào)定的光圈f/數(shù)，辨認(rèn)焦距標(biāo)記下相對的數(shù)值，便可決定有效景深。景深的作用光圈大小的改變：通過相同焦距的鏡頭對相同距離的被攝體聚焦，該示說明光圈大小的調(diào)整是如何改變景深的。一般來說，被攝體的...

由于193nm沉浸式工藝的延伸性非常強(qiáng)，同時(shí)EUV技術(shù)耗資巨大進(jìn)展緩慢。EUV（極紫外線光刻技術(shù)）是下一代光刻技術(shù)（<32nm節(jié)點(diǎn)的光刻技術(shù)）。它是采用波長為13.4nm的軟x射線進(jìn)行光刻的技術(shù)。EUV光刻的基本設(shè)備方面仍需開展大量開發(fā)工作以達(dá)到適于量產(chǎn)的成熟...

至少有一個(gè)阿基米德制造的儀器相當(dāng)類似安提基特拉機(jī)械，而且直到大約西元前150年仍在使用。西塞羅提到的任何一個(gè)儀器或許并不是在沉船中找到的安提基特拉機(jī)械，因?yàn)榘⒒椎碌脑O(shè)計(jì)和西塞羅所提的都是在預(yù)測的船沉日期之后至少30年的羅馬，而且第三個(gè)儀器幾乎確定在當(dāng)時(shí)是在波...

鏡頭的另一個(gè)重點(diǎn)在變焦能力。所謂的變焦能力包括光學(xué)變焦（optical zoom）與數(shù)碼變焦（digital zoom）兩種。兩者雖然都有助于望遠(yuǎn)拍攝時(shí)放大遠(yuǎn)方物體，但是只有光學(xué)變焦可以支持圖像主體成像后，增加更多的像素，讓主體不但變大，同時(shí)也相對更清晰。通常...

2006年時(shí)，萊特完成了他相信幾乎正確的復(fù)制品。萊特和安提基特拉機(jī)械研究計(jì)劃成員仍同時(shí)進(jìn)行安提基特拉機(jī)械的研究。萊特稍微修改他的模型，引進(jìn)了計(jì)劃團(tuán)隊(duì)建議的針狀和槽狀嚙合齒輪，這更精確模擬了月球的角速度異常變化。2007年3月6日他在希臘的雅典國家考古博物館展示...

邊緣光刻膠的去除光刻膠涂覆后，在硅片邊緣的正反兩面都會有光刻膠的堆積。邊緣的光刻膠一般涂布不均勻，不能得到很好的圖形，而且容易發(fā)生剝離（Peeling）而影響其它部分的圖形。所以需要去除。方法：a、化學(xué)的方法（Chemical EBR）。軟烘后，用PGMEA或...

對于新影像的進(jìn)一步研究促使萊特提出新看法。首先他將普萊斯的模式進(jìn)一步發(fā)展，認(rèn)為該儀器相當(dāng)于一個(gè)天象儀。萊特的天象儀不只可模擬日月運(yùn)動，還可顯示內(nèi)側(cè)行星（水星和金星）和外側(cè)行星（火星、木星和土星）的運(yùn)動。萊特提出該機(jī)械的日月運(yùn)動是基于喜帕恰斯的理論，五顆古典行星...

使用長焦鏡頭拍攝時(shí)，測光比較好采用機(jī)內(nèi)TTL測光方式。因?yàn)?，普通的入射式或反射式測光表的受光角往往大于鏡頭視角，直接按測光表數(shù)值曝光會出現(xiàn)偏差 [6]。1、使用較高快門速度高速快門可以降低或避免相機(jī)抖動造成的圖像發(fā)虛。尤其是手持相機(jī)時(shí)，應(yīng)首先考慮通過提高快門速...

光刻機(jī)系統(tǒng)是材料科學(xué)領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備，通過光學(xué)成像原理將掩模版上的微細(xì)圖形精確轉(zhuǎn)移到光刻膠表面。系統(tǒng)配置1Kw近紫外光源與6V/30W顯微鏡燈適配器，配備氣動防震臺保障精密操作環(huán)境，其技術(shù)參數(shù)截至2020年11月24日仍在使用 [1]。通過光化學(xué)反應(yīng)將掩模版上的...

手動光圈變焦鏡頭焦距可變的，有一個(gè)焦距調(diào)整環(huán)，可以在一定范圍內(nèi)調(diào)整鏡頭的焦距，其可變比一般為2 ～3倍，焦距一般為3.6~8mm。實(shí)際應(yīng)用中，可通過手動調(diào)節(jié)鏡頭的變焦環(huán)，可以方便地選擇被監(jiān)視地市場的市場角。但是當(dāng)攝像機(jī)安裝位置固定下以后，在頻繁地手動調(diào)整變焦是...

掃描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，〉1μm工藝；掩膜板1：1，全尺寸；步進(jìn)重復(fù)投影曝光（Stepping-repeating Project Printing或稱作Stepper）。80年代末～90年代...

38、卸料螺釘卸料螺釘是固定在彈壓卸料板上的螺釘，用于限制彈壓卸料板的靜止位置。39、單工序模單工序模是在壓力機(jī)一次行程中只完成一道工序的沖模。40、廢料切刀廢料切刀有兩種。1．裝于拉深件凸緣切邊模上用于割斷整圈切邊廢料以利***的切刀。2．裝于壓力機(jī)或模具上...

廣角鏡頭的基本特點(diǎn)是，鏡頭視角大，視野寬闊。從某一視點(diǎn)觀察到的景物范圍要比人眼在同一視點(diǎn)所看到的大得多；景深長，可以表現(xiàn)出相當(dāng)大的清晰范圍；能強(qiáng)調(diào)畫面的******效果，善于夸張前景和表現(xiàn)景物的遠(yuǎn)近感，這有利于增強(qiáng)畫面的***力。 [1]焦距比標(biāo)準(zhǔn)鏡頭 短，但...

由測量系統(tǒng)、指示部分和表殼部分等組成。2.測量系統(tǒng)——由接頭，彈簧管和齒輪轉(zhuǎn)動機(jī)構(gòu)等組成。3.由被測介質(zhì)的壓力作用，使彈簧管的末端（自由端）相應(yīng)地產(chǎn)生位移，借助連桿帶動機(jī)構(gòu)中的扇形齒輪產(chǎn)生一角位移，而使齒輪軸得以偏轉(zhuǎn)——傳給指示部分。4.指示部分——由分度盤、...

光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開孔，以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序。硅片清洗烘干方...

b、堅(jiān)膜，以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護(hù)下表面的能力；c、進(jìn)一步增強(qiáng)光刻膠與硅片表面之間的黏附性；d、進(jìn)一步減少駐波效應(yīng)（Standing Wave Effect）。常見問題：a、烘烤不足（Underbake）。減弱光刻膠的強(qiáng)度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻...

入門的定焦鏡頭當(dāng)然以50為優(yōu)先。古典的三鏡組合是這樣子的：35、50、135，有了這三個(gè)鏡頭，足可應(yīng)付大多數(shù)的場合需要。日后若有需要，再作擴(kuò)充。定焦鏡頭另外提供幾個(gè)不同的組合給大家參考。愛拍風(fēng)景的人可以考慮的三鏡組合為24、35（用35代替50）、135。愛拍...

●高剛性高剛性、高精密的構(gòu)架，采用鋼板焊接，并經(jīng)熱處理、消除床身內(nèi)應(yīng)力。●重心平衡1．傳動中心與機(jī)器整體的中心趨于一致，確保沖壓的精確、穩(wěn)定?！癫僮鞣€(wěn)定、安全離合器/剎車器裝置高度靈敏，再加國際前列的雙聯(lián)電磁閥和過負(fù)荷保護(hù)裝置，確保沖床滑塊運(yùn)轉(zhuǎn)及停止的精確性與...

6.齒輪傳動箱上蓋拆卸,內(nèi)部機(jī)件磨損及鍵位松動狀況之檢查并進(jìn)行油槽清洗,潤滑油換新及運(yùn)轉(zhuǎn)狀況,噪音,振動測試檢查.7.傳動系統(tǒng)各部位注油點(diǎn)之吐出油量及壓力測試與調(diào)整.8.離剎機(jī)構(gòu)之活塞動作,剎車角度,離剎間隙及來令片磨耗量之測試點(diǎn)檢與必要調(diào)整.9.滑快導(dǎo)軌與導(dǎo)...

38、卸料螺釘卸料螺釘是固定在彈壓卸料板上的螺釘，用于限制彈壓卸料板的靜止位置。39、單工序模單工序模是在壓力機(jī)一次行程中只完成一道工序的沖模。40、廢料切刀廢料切刀有兩種。1．裝于拉深件凸緣切邊模上用于割斷整圈切邊廢料以利***的切刀。2．裝于壓力機(jī)或模具上...

英特爾高級研究員兼技術(shù)和制造部先進(jìn)光刻技術(shù)總監(jiān)YanBorodovsky在去年說過“針對未來的IC設(shè)計(jì)，我認(rèn)為正確的方向是具有互補(bǔ)性的光刻技術(shù)。193納米光刻是當(dāng)前能力**強(qiáng)且**成熟的技術(shù)，能夠滿足精確度和成本要求，但缺點(diǎn)是分辨率低。利用一種新技術(shù)作為193...

在曝光過程中，需要對不同的參數(shù)和可能缺陷進(jìn)行跟蹤和控制，會用到檢測控制芯片/控片（Monitor Chip）。根據(jù)不同的檢測控制對象，可以分為以下幾種：a、顆?？仄≒article MC）：用于芯片上微小顆粒的監(jiān)控，使用前其顆粒數(shù)應(yīng)小于10顆；b、卡盤顆粒控...