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能強調(diào)前景和突出遠(yuǎn)近對比。這是廣角鏡頭的另一個重要性能。所謂強調(diào)前景和突出遠(yuǎn)近對比，是指廣角鏡頭能比其他鏡頭更加強調(diào)近大遠(yuǎn)小的對比度。也就是說，用廣角鏡頭拍出來的照片，近的東西更大，遠(yuǎn)的東西更小，從而讓人感到拉開了距離，在縱深方向上產(chǎn)生強烈的******效果。...

2、廣角鏡頭使用遮光罩或濾色鏡時，很容易遮擋鏡頭視角的周圍，使像場發(fā)暗，而這一情況，在取景時不容易察覺，但在照片上卻很明顯。因此，運用附件時， 一定要從說明書上了解清楚它們的使用范圍。如果說明書中沒有說明，拍攝時就要加倍小心。3、電子閃光燈閃光涵蓋角一般與13...

主要技術(shù)指標(biāo)：○精密壓力表測量范圍、精確度等級○型號、彈簧管材料、測量范圍MPa、精確度等級、結(jié)構(gòu)特點○精密壓力表使用環(huán)境條件：5～40℃，相對濕度不大于80%，且環(huán)境震動和壓力源的波動對儀表的精確讀數(shù)無影響?！鹁軌毫Ρ頊囟扔绊懀菏褂铆h(huán)境溫度如偏離20±3℃...

浸沒式光刻技術(shù)所面臨的挑戰(zhàn)主要有：如何解決曝光中產(chǎn)生的氣泡和污染等缺陷的問題；研發(fā)和水具有良好的兼容性且折射率大于1．8的光刻膠的問題；研發(fā)折射率較大的光學(xué)鏡頭材料和浸沒液體材料；以 及 有 效 數(shù) 值 孔 徑NA值 的 拓 展 等 問題。針 對 這 些 難 ...

對于新影像的進一步研究促使萊特提出新看法。首先他將普萊斯的模式進一步發(fā)展，認(rèn)為該儀器相當(dāng)于一個天象儀。萊特的天象儀不只可模擬日月運動，還可顯示內(nèi)側(cè)行星（水星和金星）和外側(cè)行星（火星、木星和土星）的運動。萊特提出該機械的日月運動是基于喜帕恰斯的理論，五顆古典行星...

光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔，以便進行雜質(zhì)的定域擴散的一種加工技術(shù)。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序。硅片清洗烘干方...

集成電路制造中利用光學(xué)- 化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、...

后烘方法：熱板，110～130C,1分鐘。目的：a、減少駐波效應(yīng)；b、激發(fā)化學(xué)增強光刻膠的PAG產(chǎn)生的酸與光刻膠上的保護基團發(fā)生反應(yīng)并移除基團使之能溶解于顯影液。顯影方法：a、整盒硅片浸沒式顯影（Batch Development）。缺點：顯影液消耗很大；顯影...

42、始用擋料銷（板）始用擋料銷（板）是供材料起始端部送進時定位用的零件。始用擋料銷（板）都是移動式的。43、拼塊塊是組成一個完整凹模、凸模、卸料板或固定板等的各個拼合零件。44、擋塊（板）擋塊（板）是供經(jīng)側(cè)刃切出缺口的材料送進時定位用的淬硬零件，兼用以平衡側(cè)...

艾倫·布隆萊一個和普賴斯有差異的重建模型是由澳大利亞悉尼大學(xué)的計算機科學(xué)家艾倫·布隆萊和悉尼的一位鐘表師法蘭克·帕西瓦爾建立。布隆萊和麥可·萊特合作使用更精密的X光影像重建新的模型。麥可·萊特曾擔(dān)任倫敦科學(xué)博物館機械部門主管，現(xiàn)任職于帝國理工學(xué)院的麥可·萊特和...

2005年，X射線檢測提供了關(guān)鍵的線索——殘片內(nèi)部隱藏了數(shù)千個一直都未曾被閱讀的字符。雷姆在1905年到1906年間的研究筆記表示，前板載有可知太陽和行星位置的同心環(huán)形天象演示系統(tǒng)。裝置配有前、后兩蓋以保護顯示系統(tǒng)，并刻有大量銘文。2005年的掃描結(jié)果顯示，后...

● 儀表盤面為MPa刻度值直接讀取● 精度等級0.25% 0.4%● 雙層鏡面表盤● 設(shè)有度盤調(diào)零裝置● 鐵噴塑表殼● 銅合金內(nèi)機部件● 測量范圍-0.1至60MPa 外型尺寸示意圖精密壓力表的測量范圍分類：1.微壓表（指儀表測量上限值小于0.1MPa的儀表）...

景深范圍隨著鏡頭對被攝體聚焦，可在固定參看符號兩邊尋找對應(yīng)于（或接近）己調(diào)定的光圈f/數(shù)，辨認(rèn)焦距標(biāo)記下相對的數(shù)值，便可決定有效景深。景深的作用光圈大小的改變：通過相同焦距的鏡頭對相同距離的被攝體聚焦，該示說明光圈大小的調(diào)整是如何改變景深的。一般來說，被攝體的...

放大率問題：光學(xué)鏡頭放大率問題，很多客戶可能對鏡頭放大率不了解或者認(rèn)識不多，所以造成了對鏡頭使用的錯誤操作或者選購不到合適的鏡頭，因此，普密斯光學(xué)針對這一問題進行專業(yè)的講述，希望可以幫助大家更好的理解鏡頭參數(shù)問題。放 大 率 光學(xué)放大率影像大小相對于物體的放大...

為把193i技術(shù)進一步推進到32和22nm的技術(shù)節(jié)點上，光刻**一直在尋找新的技術(shù)，在沒有更好的新光刻技術(shù)出現(xiàn)前，兩次曝光技術(shù)（或者叫兩次成型技術(shù)，DPT）成為人們關(guān) 注 的 熱 點。ArF浸沒式兩次曝光技術(shù)已被業(yè)界認(rèn)為是32nm節(jié)點相當(dāng)有競爭力的技術(shù)；在更低...

2024年9月工信部發(fā)布的技術(shù)指標(biāo)顯示，國產(chǎn)浸沒式光刻機已實現(xiàn)：1.套刻精度≤8nm [1]2.滿足28nm制程需求 [1]3.具備多重曝光技術(shù)適配能力研發(fā)過程中需突破：超純水循環(huán)系統(tǒng)的納米級污染控制高速掃描下的液體湍流抑制光路折射率穩(wěn)定性維持林本堅團隊在浸液...

42、始用擋料銷（板）始用擋料銷（板）是供材料起始端部送進時定位用的零件。始用擋料銷（板）都是移動式的。43、拼塊塊是組成一個完整凹模、凸模、卸料板或固定板等的各個拼合零件。44、擋塊（板）擋塊（板）是供經(jīng)側(cè)刃切出缺口的材料送進時定位用的淬硬零件，兼用以平衡側(cè)...

2024年9月工信部發(fā)布的技術(shù)指標(biāo)顯示，國產(chǎn)浸沒式光刻機已實現(xiàn)：1.套刻精度≤8nm [1]2.滿足28nm制程需求 [1]3.具備多重曝光技術(shù)適配能力研發(fā)過程中需突破：超純水循環(huán)系統(tǒng)的納米級污染控制高速掃描下的液體湍流抑制光路折射率穩(wěn)定性維持林本堅團隊在浸液...

手動光圈變焦鏡頭焦距可變的，有一個焦距調(diào)整環(huán)，可以在一定范圍內(nèi)調(diào)整鏡頭的焦距，其可變比一般為2 ～3倍，焦距一般為3.6~8mm。實際應(yīng)用中，可通過手動調(diào)節(jié)鏡頭的變焦環(huán)，可以方便地選擇被監(jiān)視地市場的市場角。但是當(dāng)攝像機安裝位置固定下以后，在頻繁地手動調(diào)整變焦是...

光學(xué)變焦是通過鏡頭、物體和焦點三方的位置發(fā)生變化而產(chǎn)生的。當(dāng)成像面在水平方向運動的時候，視覺和焦距就會發(fā)生變化，更遠(yuǎn)的景物變得更清晰，讓人感覺像物體遞進的感覺。顯而易見，要改變視角必然有兩種辦法，一種是改變鏡頭的焦距。用攝影的話來說，這就是光學(xué)變焦。通過改變變...

光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔，以便進行雜質(zhì)的定域擴散的一種加工技術(shù)。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序。硅片清洗烘干方...

以適用于35毫米單鏡頭反光照相機的交換鏡頭為例，標(biāo)準(zhǔn)鏡頭通常是指焦距在40至55毫米之間的攝影鏡頭，它是所有鏡頭中**基本的一種攝影鏡頭。 標(biāo)準(zhǔn)鏡頭給人以記實性的視覺效果畫面，所以在實際的拍攝中，它的使用頻率是較高的。但是，從另一方面看，由于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭的畫面效果...

光刻技術(shù)是現(xiàn)代集成電路設(shè)計上一個比較大的瓶頸?，F(xiàn)cpu使用的45nm、32nm工藝都是由193nm液浸式光刻系統(tǒng)來實現(xiàn)的，但是因受到波長的影響還在這個技術(shù)上有所突破是十分困難的，但是如采用EUV光刻技術(shù)就會很好的解決此問題，很可能會使該領(lǐng)域帶來一次飛躍。但是涉...

集成電路制造中利用光學(xué)- 化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、...

42、始用擋料銷（板）始用擋料銷（板）是供材料起始端部送進時定位用的零件。始用擋料銷（板）都是移動式的。43、拼塊塊是組成一個完整凹模、凸模、卸料板或固定板等的各個拼合零件。44、擋塊（板）擋塊（板）是供經(jīng)側(cè)刃切出缺口的材料送進時定位用的淬硬零件，兼用以平衡側(cè)...

使用長焦距鏡頭拍攝具有以下幾個方面的特點：一是視角小。所以，拍攝的景物空間范圍也小，在相同的拍攝距離處，所拍攝的影像大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭，適用于拍攝遠(yuǎn)處景物的細(xì)部和拍攝不易接近的被攝體。二是景深短。所以，能使處于雜亂環(huán)境中的被攝主體得到突出。但給精確調(diào)焦帶來了一定的困...

更精確的齒輪齒數(shù)此時也已得知，因此可進一步發(fā)展新的齒輪配置模式。更正確的資訊允許萊特可以確認(rèn)普萊斯建議的后方面板的上方轉(zhuǎn)盤是顯示235個朔望月，分成五個旋轉(zhuǎn)量度的默冬章。此外，萊特還提出了驚人的看法，他認(rèn)為儀器后面的上方轉(zhuǎn)盤是每次旋轉(zhuǎn)包含47個部分，總共五個旋...

所有實際電子束曝光、顯影后圖形的邊緣要往外擴展，這就是所謂的“電子束鄰近效應(yīng)。同時，半導(dǎo)體基片上如果有絕緣的介質(zhì)膜，電子通過它時也會產(chǎn)生一定量的電荷積累，這些積累的電荷同樣會排斥后續(xù)曝光的電子，產(chǎn)生偏移，而不導(dǎo)電的絕緣體（如玻璃片）肯定不能采用電子束曝光。還有...

目前，安提基特拉機械已被基本復(fù)原。 [5]以下是托尼·弗里思研究團隊的***復(fù)原成果。安提基特拉裝置的制作者無論使用什么周期數(shù)據(jù)，都需要遵循三個標(biāo)準(zhǔn)：精確性、可分解性與經(jīng)濟性。簡省且高效，是安提基特拉裝置齒輪傳動系統(tǒng)的一個關(guān)鍵特征。新的行星周期數(shù)據(jù)可以納入齒輪...

更精確的齒輪齒數(shù)此時也已得知，因此可進一步發(fā)展新的齒輪配置模式。更正確的資訊允許萊特可以確認(rèn)普萊斯建議的后方面板的上方轉(zhuǎn)盤是顯示235個朔望月，分成五個旋轉(zhuǎn)量度的默冬章。此外，萊特還提出了驚人的看法，他認(rèn)為儀器后面的上方轉(zhuǎn)盤是每次旋轉(zhuǎn)包含47個部分，總共五個旋...