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2.該機(jī)械有一個(gè)刻上至少2000個(gè)字母的蓋子，因此安提基特拉機(jī)械研究計(jì)劃的人員經(jīng)常認(rèn)為這是儀器說明書。這**是為了便于攜帶和個(gè)人使用。3.“說明書”的存在**該裝置是科學(xué)家和工程師設(shè)計(jì)作為非專業(yè)的旅行者使用。（記載文字有許多關(guān)于地中海的地理位置資訊）該機(jī)械不太...

集成電路制造中利用光學(xué)- 化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個(gè)數(shù)量級(jí)（從毫米級(jí)到亞微米級(jí)），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、...

③縮短圖像傳遞鏈，減少工藝上造成的缺陷和誤差，可獲得很高的成品率。④采用精密自動(dòng)調(diào)焦技術(shù)，避免高溫工藝引起的晶片變形對(duì)成像質(zhì)量的影響。⑤采用原版自動(dòng)選擇機(jī)構(gòu)（版庫），不但有利于成品率的提高，而且成為能靈活生產(chǎn)多電路組合的常規(guī)曝光系統(tǒng)。浸入式光刻技術(shù)原理這種系統(tǒng)...

攝影者也許會(huì)有這樣的體會(huì)：在照相機(jī)上裝上一個(gè)遠(yuǎn)攝鏡頭并從單鏡頭反光照相機(jī)取景器中觀察，竟一時(shí)無法想象充盈于取景器畫面的景象在何方位，不得已，只好將眼睛離開照相機(jī)取景目鏡眺望實(shí)景，方搞清楚原來是鏡頭視野太窄，它所“見”到的只是人眼通常所見到的畫面中相當(dāng)小的一部分...

攝影者也許會(huì)有這樣的體會(huì)：在照相機(jī)上裝上一個(gè)遠(yuǎn)攝鏡頭并從單鏡頭反光照相機(jī)取景器中觀察，竟一時(shí)無法想象充盈于取景器畫面的景象在何方位，不得已，只好將眼睛離開照相機(jī)取景目鏡眺望實(shí)景，方搞清楚原來是鏡頭視野太窄，它所“見”到的只是人眼通常所見到的畫面中相當(dāng)小的一部分...

2、廣角鏡頭使用遮光罩或?yàn)V色鏡時(shí)，很容易遮擋鏡頭視角的周圍，使像場(chǎng)發(fā)暗，而這一情況，在取景時(shí)不容易察覺，但在照片上卻很明顯。因此，運(yùn)用附件時(shí)， 一定要從說明書上了解清楚它們的使用范圍。如果說明書中沒有說明，拍攝時(shí)就要加倍小心。3、電子閃光燈閃光涵蓋角一般與13...

光致抗蝕劑，簡(jiǎn)稱光刻膠或抗蝕劑，指光照后能改變抗蝕能力的高分子化合物。光蝕劑分為兩大類。①正性光致抗蝕劑：受光照部分發(fā)生降解反應(yīng)而能為顯影液所溶解。留下的非曝光部分的圖形與掩模版一致。正性抗蝕劑具有分辨率高、對(duì)駐波效應(yīng)不敏感、曝光容限大、***密度低和無毒性等...

光刻系統(tǒng)SUSS是一種應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，其比較大基片尺寸為6英寸，可實(shí)現(xiàn)0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統(tǒng)通過精密光學(xué)曝光技術(shù)完成微電子器件的圖形轉(zhuǎn)移，為集成電路研發(fā)和生產(chǎn)提供關(guān)鍵工藝支持。比較大基片處理能力：支持直徑6英...

2024年9月工信部發(fā)布的技術(shù)指標(biāo)顯示，國產(chǎn)浸沒式光刻機(jī)已實(shí)現(xiàn)：1.套刻精度≤8nm [1]2.滿足28nm制程需求 [1]3.具備多重曝光技術(shù)適配能力研發(fā)過程中需突破：超純水循環(huán)系統(tǒng)的納米級(jí)污染控制高速掃描下的液體湍流抑制光路折射率穩(wěn)定性維持林本堅(jiān)團(tuán)隊(duì)在浸液...

CS型鏡頭With a 5 mm adapter ring, a C lens can be used on a CS-mount camera.U型鏡頭一種可變焦距的鏡頭，其法蘭焦距為47.526mm或1.7913in，安裝羅紋為M42×1。主要設(shè)計(jì)作35m...

選購廣角數(shù)碼相機(jī)時(shí)除了要注意相機(jī)的整體性能外，還需要著重考察其鏡頭表現(xiàn)。鏡頭畸變情況是我們首先需要考慮的因素。一般來說廣角下拍攝更容易產(chǎn)生畸變，但不同的相機(jī)所拍攝的照片變形的程度也不同，總體而言畸變?cè)捷p微越好。其次也要注意畫面的解析度，由于受到成本的限制，數(shù)碼...

半導(dǎo)體器件和集成電路對(duì)光刻曝光技術(shù)提出了越來越高的要求，在單位面積上要求完善傳遞圖像的信息量已接近常規(guī)光學(xué)的極限。光刻曝光的常用波長是3650～4358 埃，預(yù)計(jì)實(shí)用分辨率約為1微米。幾何光學(xué)的原理，允許將波長向下延伸至約2000埃的遠(yuǎn)紫外波長，此時(shí)可達(dá)到的實(shí)...

廣角鏡頭的基本特點(diǎn)是，鏡頭視角大，視野寬闊。從某一視點(diǎn)觀察到的景物范圍要比人眼在同一視點(diǎn)所看到的大得多；景深長，可以表現(xiàn)出相當(dāng)大的清晰范圍；能強(qiáng)調(diào)畫面的******效果，善于夸張前景和表現(xiàn)景物的遠(yuǎn)近感，這有利于增強(qiáng)畫面的***力。 [1]焦距比標(biāo)準(zhǔn)鏡頭 短，但...

現(xiàn)代學(xué)者的共識(shí)是該機(jī)械是在希臘語使用區(qū)域制造，所有機(jī)械上組件的文字都是通用希臘語。一種假說認(rèn)為，該機(jī)械是在希臘當(dāng)時(shí)的天文和機(jī)械工程中心羅德島上的斯多亞學(xué)派學(xué)者波希多尼制造，而天文學(xué)家喜帕恰斯參與了設(shè)計(jì)，因?yàn)樵摍C(jī)械采用了喜帕恰斯的月球運(yùn)動(dòng)理論。但由安提基特拉機(jī)械...

1971年，當(dāng)時(shí)是耶魯大學(xué)科學(xué)史**阿瓦隆講座教授的普萊斯和希臘德謨克利特國家科學(xué)研究中心的核物理學(xué)家哈拉蘭伯斯·卡拉卡洛斯合作。卡拉卡洛斯使用伽馬射線和X射線對(duì)安提基特拉機(jī)械攝影，得知了其內(nèi)部配置的關(guān)鍵訊息。1974年時(shí)普萊斯發(fā)表文章“來自希臘的齒輪裝置：安...

1902年5月17日，考古學(xué)家維拉理奧斯·史大理斯檢查發(fā)現(xiàn)的沉船中物品時(shí)發(fā)現(xiàn)一個(gè)齒輪嵌在一塊巖石中。 [1]史大理斯一開始認(rèn)為這是天文鐘，但多數(shù)學(xué)者認(rèn)為這是時(shí)代錯(cuò)誤，這物品和同時(shí)期發(fā)現(xiàn)的其他東西相較之下太過復(fù)雜。對(duì)該物品調(diào)查的熱潮很快下降，直到1951年英國物...

世界三 大光刻機(jī) 生產(chǎn)商ASML，Nikon和Cannon的*** 代 浸 沒 式 光 刻 機(jī) 樣 機(jī) 都 是 在 原 有193nm干式光刻機(jī)的基礎(chǔ)上改進(jìn)研制而成，**降低了研發(fā)成本和風(fēng)險(xiǎn)。因?yàn)榻]式光刻系統(tǒng)的原理清晰而且配合現(xiàn)有的光刻技術(shù)變動(dòng)不大，目前193...

廣角鏡頭***用于大場(chǎng)面風(fēng)景攝影作品的拍攝。 能增加攝影畫面的空間縱深感； 景深較長，能保證被攝主體的前后景物在畫面上均可清晰的再現(xiàn)。所以，現(xiàn)代絕大多數(shù)的袖珍式自動(dòng)照相機(jī)（俗稱傻瓜照相機(jī)）采用38－35毫米的普通廣角鏡頭； 鏡頭的涵蓋面積大，拍攝的景物范圍寬廣...

用長焦頭拍攝遠(yuǎn)處景物，影像質(zhì)量受天氣影響較大，紫外線、塵埃和水汽都會(huì)使影像清晰度下降、反差變?nèi)鹾蜕什伙柡?。因此，用長焦頭拍攝遠(yuǎn)處景物時(shí)，比較好要選擇反差較大、色彩較飽和的景物做拍攝對(duì)象。此外，攝影時(shí)可用UV鏡、天光鏡或偏振鏡來提高影像清晰度；若是黑白攝影，還...

已找到一個(gè)制造于5或6世紀(jì)拜占庭帝國，和一個(gè)日晷相連接的日期齒輪的殘骸；該儀器可能是做為報(bào)時(shí)輔助。在**世界中，西元9世紀(jì)早期阿拉伯帝國的哈里發(fā)委托巴努·穆薩寫下的《巧妙設(shè)備之書》（Book of Ingenious Devices，暫譯）。該書描述了超過一百...

掃描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，〉1μm工藝；掩膜板1：1，全尺寸；步進(jìn)重復(fù)投影曝光（Stepping-repeating Project Printing或稱作Stepper）。80年代末～90年代...

自動(dòng)精密沖床是一種用于金屬?zèng)_壓成型的工業(yè)設(shè)備，主要應(yīng)用于汽車、電子、五金制造等領(lǐng)域，可適配自動(dòng)化送料系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)高效生產(chǎn)。其機(jī)身采用鋼板焊接結(jié)構(gòu)并經(jīng)過熱處理，具有高剛性和穩(wěn)定性。設(shè)備**部件包含曲軸、齒輪軸等硬化研磨組件，結(jié)合重心平衡設(shè)計(jì)保障沖壓精度。配置雙聯(lián)電磁...

光致抗蝕劑，簡(jiǎn)稱光刻膠或抗蝕劑，指光照后能改變抗蝕能力的高分子化合物。光蝕劑分為兩大類。①正性光致抗蝕劑：受光照部分發(fā)生降解反應(yīng)而能為顯影液所溶解。留下的非曝光部分的圖形與掩模版一致。正性抗蝕劑具有分辨率高、對(duì)駐波效應(yīng)不敏感、曝光容限大、***密度低和無毒性等...

所有實(shí)際電子束曝光、顯影后圖形的邊緣要往外擴(kuò)展，這就是所謂的“電子束鄰近效應(yīng)。同時(shí)，半導(dǎo)體基片上如果有絕緣的介質(zhì)膜，電子通過它時(shí)也會(huì)產(chǎn)生一定量的電荷積累，這些積累的電荷同樣會(huì)排斥后續(xù)曝光的電子，產(chǎn)生偏移，而不導(dǎo)電的絕緣體（如玻璃片）肯定不能采用電子束曝光。還有...

42、始用擋料銷（板）始用擋料銷（板）是供材料起始端部送進(jìn)時(shí)定位用的零件。始用擋料銷（板）都是移動(dòng)式的。43、拼塊塊是組成一個(gè)完整凹模、凸模、卸料板或固定板等的各個(gè)拼合零件。44、擋塊（板）擋塊（板）是供經(jīng)側(cè)刃切出缺口的材料送進(jìn)時(shí)定位用的淬硬零件，兼用以平衡側(cè)...

由測(cè)量系統(tǒng)、指示部分和表殼部分等組成。2.測(cè)量系統(tǒng)——由接頭，彈簧管和齒輪轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)等組成。3.由被測(cè)介質(zhì)的壓力作用，使彈簧管的末端（自由端）相應(yīng)地產(chǎn)生位移，借助連桿帶動(dòng)機(jī)構(gòu)中的扇形齒輪產(chǎn)生一角位移，而使齒輪軸得以偏轉(zhuǎn)——傳給指示部分。4.指示部分——由分度盤、...

西塞羅的著作《論共和國》，一本西元前一世紀(jì)的哲學(xué)對(duì)話錄，提及兩個(gè)現(xiàn)代被認(rèn)為是某種天象儀或太陽系儀的儀器，可以預(yù)測(cè)日月和五顆行星在天球的位置。這兩個(gè)儀器都是由阿基米德制造，在阿基米德于西元前212年的敘拉古圍城戰(zhàn)身亡后，這兩臺(tái)機(jī)器被羅馬將領(lǐng)馬庫斯·克勞迪烏斯·馬...

電動(dòng)三可變鏡頭與自動(dòng)光圈電動(dòng)變焦鏡頭相比，只是將對(duì)光圈調(diào)整電機(jī)的控制由自動(dòng)控制改為由控制器來手動(dòng)控制。按焦距（約50度左右），廣角鏡頭和特廣角鏡頭（100-120度）標(biāo)準(zhǔn)鏡頭視角約50度，也是人單眼在頭和眼不轉(zhuǎn)動(dòng)的情況下所能看到的視角，所以又稱為標(biāo)準(zhǔn)鏡頭。5m...

決定光刻膠涂膠厚度的關(guān)鍵參數(shù)：光刻膠的黏度（Viscosity），黏度越低，光刻膠的厚度越??；旋轉(zhuǎn)速度，速度越快，厚度越薄；影響光刻膠均勻性的參數(shù)：旋轉(zhuǎn)加速度，加速越快越均勻；與旋轉(zhuǎn)加速的時(shí)間點(diǎn)有關(guān)。一般旋涂光刻膠的厚度與曝光的光源波長有關(guān)（因?yàn)椴煌?jí)別的曝光...

世界三 大光刻機(jī) 生產(chǎn)商ASML，Nikon和Cannon的*** 代 浸 沒 式 光 刻 機(jī) 樣 機(jī) 都 是 在 原 有193nm干式光刻機(jī)的基礎(chǔ)上改進(jìn)研制而成，**降低了研發(fā)成本和風(fēng)險(xiǎn)。因?yàn)榻]式光刻系統(tǒng)的原理清晰而且配合現(xiàn)有的光刻技術(shù)變動(dòng)不大，目前193...