光刻膠缺陷控制：芯片良率的生死線字?jǐn)?shù)：465光刻膠缺陷是導(dǎo)致晶圓報(bào)廢的首要因素，每平方厘米超過0.1個(gè)致命缺陷可使28nm芯片良率暴跌至50...
光刻膠的選擇策略：如何為特定工藝匹配合適的光刻膠選擇光刻膠的關(guān)鍵考量維度：工藝節(jié)點(diǎn)/**小特征尺寸（決定波長和膠類型）。光刻技術(shù)（干法、浸沒...
《EUV光刻膠：3nm芯片的決勝關(guān)鍵》極限需求極紫外光（13.5nm）能量為DUV的1/10，要求光刻膠：量子產(chǎn)率＞5（傳統(tǒng)CAR*2~3）...
《光刻膠缺陷分析與控制：提升芯片良率的關(guān)鍵》**內(nèi)容： 列舉光刻膠工藝中常見的缺陷類型（顆粒、氣泡、彗星尾、橋連、鉆蝕、殘留等）。擴(kuò)展點(diǎn)： ...
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司坐落于松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)，注冊資本 2000 萬元，是一家專注于半導(dǎo)體材料研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的技術(shù)企業(yè)和廣東省專精特新企業(yè)及廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)，我們的產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球，與許多世界 500 強(qiáng)企業(yè)和電子加工企業(yè)建立了長期合作關(guān)系。 公司產(chǎn)品主要有：芯片光刻膠，納米壓印光刻膠，LCD 光刻膠，半導(dǎo)體錫膏，焊片，靶材等材料，公司是一個(gè)擁有 23 年研發(fā)與生產(chǎn)的綜合性企業(yè)。公司按照 ISO9001:2008 質(zhì)量體系標(biāo)準(zhǔn)，嚴(yán)格監(jiān)控生產(chǎn)制程，生產(chǎn)環(huán)境嚴(yán)格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理，所有生產(chǎn)材料均采用美國、德國與日本及其他國家進(jìn)口的高質(zhì)量材料，確?？蛻裟苁褂玫匠哔|(zhì)量及穩(wěn)定的產(chǎn)品。 我們將繼續(xù)秉承精湛的技術(shù)和專業(yè)的服務(wù)，致力于為客戶提供解決方案，共同推動(dòng)半導(dǎo)體材料的發(fā)展。
