在碳化硅晶圓切割領域，由于材料硬度高達莫氏 9 級，傳統(tǒng)切割方式面臨效率低下的問題。中清航科創(chuàng)新采用超高壓水射流與激光復合切割技術，利用水射流的冷卻作用抑制激光切割產生的熱影響區(qū)，同時借助激光的預熱作用降低材料強度，使碳化硅晶圓的切割效率提升 3 倍，熱影響區(qū)控制在 10μm 以內。晶圓切割設備的可靠性是大規(guī)模生產的基礎保障。中清航科對中心部件進行嚴格的可靠性測試，其中激光振蕩器經過 10 萬小時連續(xù)運行驗證，機械導軌的壽命測試達到 200 萬次往復運動無故障。設備平均無故障時間（MTBF）突破 1000 小時，遠超行業(yè) 800 小時的平均水平，為客戶提供穩(wěn)定可靠的生產保障。中清航科等離子切割技術處理氮化鎵晶圓，熱影響區(qū)減少60%。連云港晶圓切割寬度

半導體制造對潔凈度要求嚴苛，晶圓切割環(huán)節(jié)的微塵污染可能導致芯片失效。中清航科的切割設備采用全封閉防塵結構與高效 HEPA 過濾系統(tǒng)，工作區(qū)域潔凈度達到 Class 1 標準，同時配備激光誘導等離子體除塵裝置，實時清理切割產生的微米級顆粒，使產品不良率降低至 0.1% 以下。在成本控制成為半導體企業(yè)核心競爭力的現(xiàn)在，中清航科通過技術創(chuàng)新實現(xiàn)切割耗材的大幅節(jié)約。其自主研發(fā)的金剛石切割刀片，使用壽命較行業(yè)平均水平延長 50%，且通過刀片磨損實時監(jiān)測與自動補償技術，減少頻繁更換帶來的停機損失，幫助客戶降低 20% 的耗材成本，在激烈的市場競爭中構筑成本優(yōu)勢。無錫sic晶圓切割廠中清航科推出晶圓切割應力補償算法，翹曲晶圓良率提升至98.5%。

大規(guī)模量產場景中，晶圓切割的穩(wěn)定性與一致性至關重要。中清航科推出的全自動切割生產線，集成自動上下料、在線檢測與 NG 品分揀功能，單臺設備每小時可處理 30 片 12 英寸晶圓，且通過工業(yè)互聯(lián)網平臺實現(xiàn)多設備協(xié)同管控，設備綜合效率（OEE）提升至 90% 以上，明顯降低人工干預帶來的質量波動。隨著芯片集成度不斷提高，晶圓厚度逐漸向超薄化發(fā)展，目前主流晶圓厚度已降至 50-100μm，切割過程中極易產生變形與破損。中清航科創(chuàng)新采用低溫輔助切割技術，通過局部深冷處理增強晶圓材料剛性，配合特制真空吸附平臺，確保超薄晶圓切割后的翹曲度小于 20μm，為先進封裝工藝提供可靠的晶圓預處理保障。

在晶圓切割的邊緣檢測精度提升上，中清航科創(chuàng)新采用雙攝像頭立體視覺技術。通過兩個高分辨率工業(yè)相機從不同角度采集晶圓邊緣圖像，經三維重建算法精確計算邊緣位置，即使晶圓存在微小翹曲，也能確保切割路徑的精確定位，邊緣檢測誤差控制在 1μm 以內，大幅提升切割良率。為適應半導體工廠的能源管理需求，中清航科的切割設備配備能源監(jiān)控與分析系統(tǒng)。實時監(jiān)測設備的電壓、電流、功率等能源參數，生成能耗分析報表，識別能源浪費點并提供優(yōu)化建議。同時支持峰谷用電策略，可根據工廠電價時段自動調整運行計劃，降低能源支出。中清航科提供切割工藝認證服務，助客戶通過車規(guī)級標準。

晶圓切割作為半導體制造流程中的關鍵環(huán)節(jié)，直接影響芯片的良率與性能。中清航科憑借多年行業(yè)積淀，研發(fā)出高精度激光切割設備，可實現(xiàn)小切割道寬達 20μm，滿足 5G 芯片、車規(guī)級半導體等領域的加工需求。其搭載的智能視覺定位系統(tǒng)，能實時校準晶圓位置偏差，將切割精度控制在 ±1μm 以內，為客戶提升 30% 以上的生產效率。在半導體產業(yè)快速迭代的當下，晶圓材料呈現(xiàn)多元化趨勢，從傳統(tǒng)硅基到碳化硅、氮化鎵等寬禁帶半導體，切割工藝面臨更大挑戰(zhàn)。中清航科針對性開發(fā)多材料適配切割方案，通過可調諧激光波長與動態(tài)功率控制技術，完美解決硬脆材料切割時的崩邊問題，崩邊尺寸可控制在 5μm 以下，助力第三代半導體器件的規(guī)?；a。12英寸晶圓切割中清航科解決方案突破產能瓶頸，良率99.3%。湖州藍寶石晶圓切割測試

中清航科定制刀輪應對超薄晶圓切割，碎片率降至0.1%以下。連云港晶圓切割寬度

中清航科創(chuàng)新性推出“激光預劃+機械精切”復合方案：先以激光在晶圓表面形成引導槽，再用超薄刀片完成切割。此工藝結合激光精度與刀切效率，解決化合物半導體（如GaAs、SiC）的脆性開裂問題，加工成本較純激光方案降低35%。大尺寸晶圓切割面臨翹曲變形、應力集中等痛點。中清航科全自動切割機配備多軸聯(lián)動補償系統(tǒng)，通過實時監(jiān)測晶圓形變動態(tài)調整切割參數。搭配吸附托盤，將12英寸晶圓平整度誤差控制在±2μm內，支持3D NAND多層堆疊結構加工。連云港晶圓切割寬度