熔鹽電解槽多用于制備低熔點金屬，特點是高溫運行，應盡量防止水分進入，以免氫離子被陰極還原。例如，在制備鈉時，鈉離子陰極的還原電位為負，難以還原，因此需要使用不含氫離子的水溶鹽或融水氧化物，以免在陰極析出氫離子。因此，電解工藝需要在高溫下進行，例如電解熔融氫氧化鈉時為310，含有氯化鈉成為混合電解質時，電解溫度為650左右。電解槽的高溫可以通過改變電極間距，但電解含氯化物的熔融電解質時，原料中不可避免地帶入少量水分，將歐姆電壓降所消耗的電力轉換為熱能來實現(xiàn)。熔融鹽電解槽在制取金屬鈉時，必須用不含氫離子的無水熔融鹽或熔融的氫氧化物，以免陰極析出氫。上海新型電解槽設備

陰極以金屬或合金作為陰極時，由于在比較負的電位下工作,往往可以起到陰極保護作用，腐蝕性小,所以陰極材料比較容易選擇。在水溶液電解槽中，陰極一般產生析氫反應，過電位較高。因此陰極材料的主要改進方向是降低析氫過電位。除用硫酸作為電解液時必須采用鉛或石墨作陰極外，低碳鋼是常用的陰極材料。為降低電耗，目前采用各種方法制備高比表面積，并具有催化活性的陰極，如多孔鎳鍍層陰極。為了提高產品質量，也可采用特殊的陰極材料，如在HG法電解食鹽水溶液制取燒堿的汞陰極中，利用汞析氫過電位高的特點，使鈉離子放電，生成鈉汞齊，然后在專門用的設備中，用水分解鈉汞齊制取高純度、高濃度堿液。另外，為了節(jié)約電能也可采用耗氧陰極，使氧在陰極還原，以代替析氫反應，按理論計算可降低槽電壓1.23V。天津電解槽電解槽設計現(xiàn)代電解槽采用各種措施以降低極間距，如采用擴散陽極、改性隔膜制成零極距電解槽結構等。

電解槽陰極以金屬或合金作為陰極時，由于在比較負的電位下工作,往往可以起到陰極保護作用，腐蝕性小,所以陰極材料比較容易選擇。在水溶液電解槽中，陰極一般產生析氫反應，過電位較高。因此陰極材料的主要改進方向是降低析氫過電位。除用硫酸作為電解液時必須采用鉛或石墨作陰極外，低碳鋼是常用的陰極材料。為降低電耗，目前采用各種方法制備高比表面積，并具有催化活性的陰極，如多孔鎳鍍層陰極。為了提高產品質量，也可采用特殊的陰極材料，如在HG法電解食鹽水溶液制取燒堿的汞陰極中，利用汞析氫過電位高的特點，使鈉離子放電，生成鈉汞齊，然后在專門用的設備中，用水分解鈉汞齊制取高純度、高濃度堿液。

非水溶液電解槽：由于非水溶液電解槽在制取有機產品或電解有機物時,常伴隨有各種復雜的化學反應,使其應用受到限制，工業(yè)化的不多。一般采用的有機電解液，電導率低，反應速度也小。因此，必須采用較低的電流密度，極間距盡量縮小。采用固定床或流化床的電極結構有較大的電極表面積，可提高電解槽生產能力。電解槽按電極的連接方式，可分為單極式和復極式兩類電解槽。復極式一般采用壓濾機結構形式，比較緊湊。但易漏電和短路，槽結構和操作管理比單極式復雜。單極式電解槽截面一般為長方形或方形，圓筒形占地大，空間利用率低，采用較少。電解槽是當直流電通過電解槽時,在陽極與溶液界面處發(fā)生氧化反應,在陰極與溶液界面處發(fā)生還原反應。

電極是采用特殊的電鍍工藝，在經過特殊化處理的鈮基材表面鍍鉑，可以全鍍或者局部鍍，產品表面呈銀白色，具有鍍層均勻細膩，結合牢固，輸出電流大、使用壽命長等優(yōu)點。鈮的導電性及耐腐蝕性更優(yōu)于鈦，但是鈮材價格昂貴。主要應用于：電鍍，陰極保護等，特別適用于含氟離子的復合溶液(如：活塞環(huán)、氣門等鍍硬鉻)直接電解純水產生高純氫氣（不加堿），電解池只電解純水即可產氫。通電后，電解池陰極產氫氣，陽極產氧氣，氫氣進入氫/水分離器。氧氣排入大氣。氫/水分離器將氫氣和水分離。氫氣進入干燥器除濕后，經穩(wěn)壓閥、調節(jié)閥調整到額定壓力（0.02～0.45Mpa可調）由出口輸出。電解槽由槽體、陽極和陰極組成，多數(shù)用隔膜將陽極室和陰極室隔開。湖南100立方電解槽管理

熔融鹽電解槽中的陰、陽極產物，要求妥善隔開，且應盡快由槽中引出，以免陰極產物長時間飄浮在電解液表面。上海新型電解槽設備

電解槽主體結構：1、陽極陽極和陰極的作用不同，對材質要求也各異。分可溶性和不可溶性兩類。在精煉銅用的電解槽中，陽極材料為可溶性的待精煉的粗銅。它在電解過程中溶入溶液，以補充在陰極上從溶液中析出的銅。在電解水溶液（如食鹽水溶液）用的電解槽中，陽極為不溶性的，它們在電解過程基本不發(fā)生變化，但對在電極表面上所進行的陽極反應常具有催化作用。在化學工業(yè)中，大多采用不溶性陽極。陽極材料除需滿足一般電極材料的基本需求（如導電性、催化活性強度、加工、來源、價格）外，還需能在強陽極極化和較高溫度的陽極液中不溶解、不鈍化，具有很高的穩(wěn)定性。長期以來，石墨是使用較多數(shù)的陽極材料。上海新型電解槽設備

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