類金剛石薄膜（DLC）擁有高硬度，低摩擦、耐腐蝕等性能，已經(jīng)應用于機械刀具、模具、汽車發(fā)動機部件等領域。但由于制備技術的限制，導致DLC存在殘余應力較高、膜/基結合力差、摩擦性能不穩(wěn)定、大面積均勻制備困難等問題。線性陽極離子束技術具有等離子體離化率高、大面積均勻沉積等特點，是制備高性能DLC薄膜的理想技術。針對DLC與基體結合性能較差的現(xiàn)狀，首先從添加合適過渡層（W）匹配膜/基適應性出發(fā)，探討W過渡層厚度對DLC薄膜物相、機械力學、摩擦學性能的影響。在此基礎上，通過不同工藝W過渡層結構設計，研究其對膜/基性能的影響。為改善金屬基體沉積DLC薄膜的工業(yè)化應用，根據(jù)不同類型過渡層性能的對比，優(yōu)化過渡層設計，制備出膜/基結合強度高、機械性能良好的DLC復合薄膜，上海英屹涂層技術有限公司引進美國PE-CVD設備技術制備的類金剛石DLC膜層沉積速率快膜厚可達60um膜層硬度高膜層摩擦系數(shù)低小于結合力好耐腐蝕性能好優(yōu)異的耐磨性膜層具有自潤滑性的優(yōu)點?？梢越鉀QPVD涂層鍍不到的工件內(nèi)孔的問題。公司涂層已經(jīng)應用于航空機械模具電子醫(yī)療汽車發(fā)動機部件等領域。真空鍍膜機DLC薄膜的適用范圍。青浦金屬DLC技術

雖然液相電沉積技術在制備類金剛石薄膜及其相關材料方面具有很多優(yōu)勢，目前對電化學沉積DLC薄膜的研究報道也越來越多，但這一領域仍有很多方面需要進一步研究:(1)繼續(xù)擴大成膜基底的選擇范圍,并深入研究不同基底材料對DLC薄膜性能的影響;(2)更為全面地研究不同電解液和沉積條件對薄膜性質(zhì)的影響;(3)深入研究成膜機理,并建立具有普遍指導意義的理論模型;(4)開展功能元素的摻雜,使其可以在微電子、生物傳感器等高新領域得到應用。電沉積方法的獨特優(yōu)勢，決定了它巨大的發(fā)展?jié)摿?，已在近年來受到了人們的普遍重視，相信隨著研究的不斷深入，技術的不斷發(fā)展和成熟，該領域的研究范圍將會越來越廣，研究成果也會越來越豐碩。DLC薄膜的性能與應用DLC薄膜將高硬度、低摩擦系數(shù)、耐磨損、抗劃傷性、耐腐蝕性、抗粘連、化學穩(wěn)定性等特性完美地結合，在力學、摩擦學、生物學、電學、光學、熱學和聲學等方面展示出優(yōu)良特性，可廣泛應用于機械、工模具、刀具、汽車、電子、光學、生物醫(yī)學、航空航天、裝飾外觀保護，如手表外殼、首飾配件、手機外殼等領域。徐州不銹鋼DLC新型的DLC(類金剛石碳)涂層材料——金剛烷化合物。

類金剛石碳膜(diamond-likecarbonfilms，簡稱DLC膜)，是含有類似金剛石結構的非晶碳膜，也是我們在這里真正需要介紹的一種。DLC膜的基本成分是碳，由于其碳的來源和制備方法的差異，DLC膜可分為含氫和不含氫兩大類。DLC膜是一種亞穩(wěn)態(tài)長程無序的非晶材料，碳原子間的鍵合方式是共價鍵，主要包含sp2和sp3兩種雜化鍵，在含氫DLC膜中還存在一定數(shù)量的C-H鍵。我們從1996年起開始磁過濾真空弧及沉積DLC膜研究，正在完善工業(yè)化技術。如等離子體源沉積法、離子束源沉積法、孿生中頻磁控濺射法、真空陰極電弧沉積法和脈沖高壓放點等。不同的制備方法，DLC膜的成分、結構和性能不同。類金剛石碳膜(Diamond-likecarbonfilms，簡稱DLC膜)作為新型的硬質(zhì)薄膜材料具有一系列優(yōu)異的性能，如高硬度、高耐磨性、高熱導率、高電阻率、良好的光學透明性、化學惰性等，可用于機械、電子、光學、熱學、聲學、醫(yī)學等領域，具有良好的應用前景。我們開發(fā)了等離子體-離子束源增強沉積系統(tǒng)，并同過該系統(tǒng)中的磁過濾真空陰極弧和非平衡磁控濺射來進行DLC膜的開發(fā)。該項技術用于電子、裝飾、宇航、機械和信息等領域，用于摩擦、光學功能等用途。目前在我國技術正處于發(fā)展和完善階段，有巨大市場潛力。

利用非平衡磁控濺射技術在316L不銹鋼基底和316L不銹鋼基底噴焊Ni60C涂層表面分別制備a-C、a-C∶H、a-C∶Cr3種類金剛石碳基(DLC)薄膜,對比分析了不同防護體系在5％H2SO4(質(zhì)量分數(shù))溶液中的耐磨蝕性能.結果表明:較單層DLC薄膜,Ni60C/DLC復合體系膜-基結合強度大幅提高,腐蝕磨損性能明顯改善,其摩擦系數(shù)在～×10-8～×10-8mm3/N·m之間.Ni60C涂層作為硬質(zhì)支撐層提高了薄膜的承載能力,且有效了腐蝕摩擦過程中碳基(DLC)薄膜的石墨化進程,提高了Ni60C/DLC復合體系耐磨蝕性能.上海英屹涂層技術有限公司引進美國PE-CVD設備技術制備的類金剛石DLC膜層沉積速率快膜厚可達60um膜層硬度高膜層摩擦系數(shù)低小于結合力好耐腐蝕性能好優(yōu)異的耐磨性膜層具有自潤滑性的優(yōu)點?？梢越鉀QPVD涂層鍍不到的工件內(nèi)孔的問題。公司涂層已經(jīng)應用于航空機械模具電子醫(yī)療汽車發(fā)動機部件等領域。鋅鎳合金電鍍,特氟龍涂層,DLC涂層的性能區(qū)別？

類金剛石膜DLC因其具有抗磨性、化學惰性、沉積溫度低、膜面光滑，可以將其作為一些電子產(chǎn)品的保護膜。如噴墨打印機墨盒加熱層上、磁存儲器的表面、錄音機磁頭極尖加一層類金剛石膜DLC保護層、不僅能有效的減少機械損傷，又不影響數(shù)據(jù)存儲。類金剛石膜具有電阻率高、絕緣性強、化學惰性高和低電子親和力等性能，且易在較大的基體上成膜。人們將類金剛石膜用作光刻電路板的掩膜，不僅可以避免操作過程中的機械損傷，還可以在去除薄膜表面的污染物允許用較激烈的機械或化學腐蝕方法，且同時不會破壞薄膜的表面，所以類金剛石膜有望代替SO2成為下一代集成電路的介質(zhì)材料。近年來，類金剛石膜在微電子領域的應用，逐漸成為熱點。采用類金剛石膜和碳膜交替出現(xiàn)的多層膜結構構造成的多量子阱結構，具有共振隧道效應的和獨特的電特性，在微電子領域有著潛在的應用前景。類金剛石膜具有良好的表面平面光滑度，電子發(fā)射均勻性好，并且其具有負的電子親和勢，有效功函數(shù)相對較低的和較寬的禁帶寬度，即使在較低的外電場作用下，也可產(chǎn)生較大的發(fā)生電流，這個性能在平板顯示器中有著特殊的使用價值。不同過渡層對DLC薄膜力學性能和摩擦學性能的影響。松江電鍍DLC工藝

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類金剛石（英文：Diamond-likeCarbon縮寫DLC）是一種非晶碳，這種材料表現(xiàn)出很多與金剛石相類似的性質(zhì)，DLC常常作為涂層材料使用。類金剛石的微觀結構為了弄清楚類金剛石的概念，我們首先研究一下碳元素。碳元素存在于自然界當中，我們平時看到的鉆石、石墨、富勒烯、碳納米管等等都是碳元素形成的。當碳原子以sp3鍵的雜化軌道行程共價鍵的時候，就會形成金剛石。當碳原子以sp2鍵的雜化軌道行程共價鍵的時候，就會形成石墨。當以碳原子sp2、sp3鍵混合雜化的時候，形成的就是類金剛石了。類金剛石常常是以薄膜形式使用的，類金剛石薄膜具有高硬度.高電阻率.良好光學性能等，同時又具有自身獨特摩擦學特性的非晶碳薄膜。碳元素因碳原子和碳原子之間的不同結合方式，從而使其終產(chǎn)生不同的物質(zhì)：金剛石（diamond）—碳碳以sp3鍵的形式結合；石墨（graphite）—碳碳以sp2鍵的形式結合；而如同緒論里所述類金剛石（DLC）—碳碳則是以sp3和sp2鍵的形式結合，生成的無定形碳的一種亞穩(wěn)定形態(tài)，它沒有嚴格的定義，可以包括很寬性質(zhì)范圍的非晶碳，因此兼具了金剛石和石墨的優(yōu)良特性；所以由類金剛石而來的DLC膜同樣是一種亞穩(wěn)態(tài)長程無序的非晶材料，碳原子間的鍵合方式是共價鍵。青浦金屬DLC技術