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無(wú)錫金屬DLC工藝

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-03-29

類金剛石膜DLC因其具有抗磨性、化學(xué)惰性、沉積溫度低、膜面光滑,可以將其作為一些電子產(chǎn)品的保護(hù)膜。如噴墨打印機(jī)墨盒加熱層上、磁存儲(chǔ)器的表面、錄音機(jī)磁頭極尖加一層類金剛石膜DLC保護(hù)層、不僅能有效的減少機(jī)械損傷,又不影響數(shù)據(jù)存儲(chǔ)。類金剛石膜具有電阻率高、絕緣性強(qiáng)、化學(xué)惰性高和低電子親和力等性能,且易在較大的基體上成膜。人們將類金剛石膜用作光刻電路板的掩膜,不僅可以避免操作過(guò)程中的機(jī)械損傷,還可以在去除薄膜表面的污染物允許用較激烈的機(jī)械或化學(xué)腐蝕方法,且同時(shí)不會(huì)破壞薄膜的表面,所以類金剛石膜有望代替SO2成為下一代集成電路的介質(zhì)材料。近年來(lái),類金剛石膜在微電子領(lǐng)域的應(yīng)用,逐漸成為熱點(diǎn)。采用類金剛石膜和碳膜交替出現(xiàn)的多層膜結(jié)構(gòu)構(gòu)造成的多量子阱結(jié)構(gòu),具有共振隧道效應(yīng)的和獨(dú)特的電特性,在微電子領(lǐng)域有著潛在的應(yīng)用前景。類金剛石膜具有良好的表面平面光滑度,電子發(fā)射均勻性好,并且其具有負(fù)的電子親和勢(shì),有效功函數(shù)相對(duì)較低的和較寬的禁帶寬度,即使在較低的外電場(chǎng)作用下,也可產(chǎn)生較大的發(fā)生電流,這個(gè)性能在平板顯示器中有著特殊的使用價(jià)值。上海冶金所研制的DLC平面柱狀陣列場(chǎng)發(fā)射平板顯示器樣品就是利用了這一原理。DLC鍍膜鋼領(lǐng)磨損原因與鍍膜工藝改進(jìn)。無(wú)錫金屬DLC工藝

采用優(yōu)化的沉積類金剛石(DLC)涂層工藝及過(guò)渡層技術(shù),在硬質(zhì)合金上制備出性能優(yōu)良的DLC膜.實(shí)驗(yàn)室切削試驗(yàn)與工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)切削表明:在切削鋁青銅和共晶鋁硅合金時(shí),DLC膜涂層刀具使用壽命明顯高于末涂層刀具.上海英屹涂層技術(shù)有限公司引進(jìn)美國(guó)PE-CVD設(shè)備技術(shù)制備的類金剛石DLC膜層沉積速率快膜厚可達(dá)60um膜層硬度高膜層摩擦系數(shù)低小于0.1結(jié)合力好耐腐蝕性能好優(yōu)異的耐磨性膜層具有自潤(rùn)滑性的優(yōu)點(diǎn)??梢越鉀QPVD涂層鍍不到的工件內(nèi)孔的問(wèn)題。公司涂層已經(jīng)應(yīng)用于航空機(jī)械模具電子醫(yī)療汽車發(fā)動(dòng)機(jī)部件等領(lǐng)域。南通表面DLC類金剛石薄膜(DLC)的制備方法及應(yīng)用。

智能手機(jī)發(fā)展至今,硬件技術(shù)革新突飛猛進(jìn),不少千元手機(jī)都已經(jīng)擁有了旗艦配置,足以滿足日常使用的基本需求。都說(shuō)眼睛是心靈的窗戶,那么屏幕就是手機(jī)的窗戶,而千元機(jī)的手機(jī)屏幕玻璃,往往質(zhì)量堪憂,用不了幾個(gè)星期,就會(huì)出現(xiàn)明顯的劃痕。類金剛石鍍膜在原有屏幕玻璃的結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)之上,額外覆蓋了一層類金剛石薄膜,除了防污疏油、順滑手感之外、增強(qiáng)玻璃硬度是重要的作用。經(jīng)過(guò)oDLC類金剛石鍍膜技術(shù)處理過(guò)的手機(jī),其屏幕玻璃耐刮性能達(dá)到9H++級(jí)別,可以與藍(lán)寶石玻璃相媲美。經(jīng)過(guò)實(shí)際測(cè)試,用金屬刀尖這樣尖銳的物體反復(fù)刮擦,也不會(huì)留下任何痕跡,應(yīng)付各種日常使用場(chǎng)景更是不在話下,oDLC類金剛石鍍膜就像是給手機(jī)屏幕裝上了一層金剛外衣,對(duì)手機(jī)屏幕起到至關(guān)重要的保護(hù)作用。對(duì)于常年暴露在危險(xiǎn)環(huán)境中的手機(jī)屏幕來(lái)說(shuō),oDLC類金剛石鍍膜技術(shù)簡(jiǎn)直是救星一般的存在。

在眾多類型的碳材料中,類金剛石薄膜(diamond-likecarbon,DLC)因其優(yōu)異的性能吸引了世界范圍內(nèi)的關(guān)注和研究。DLC薄膜的結(jié)構(gòu)處于金剛石和石墨結(jié)構(gòu)之間的,主要是由金剛石結(jié)構(gòu)的sp3雜化碳原子和石墨結(jié)構(gòu)的sp2雜化碳原子混雜在一起形成的復(fù)雜三維網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)構(gòu)成[27]。根據(jù)晶體材料的特征分析,DLC薄膜通常呈現(xiàn)非晶態(tài)或非晶納米晶復(fù)合結(jié)構(gòu)。根據(jù)氫的有無(wú)可以分為含氫DLC薄膜(a-C:H)和不含氫DLC薄膜(a-C)。根據(jù)不同的含氫量和sp3與sp2雜化鍵的比例又分為不同的細(xì)類,如圖1-1所示。在2005年德國(guó)工程師學(xué)會(huì)定制的“碳涂層”標(biāo)準(zhǔn)中,又可將DLC薄膜細(xì)分為不同的七大類[27]。由于DLC薄膜的結(jié)構(gòu)介于金剛石和石墨之間,使其具有高的硬度,優(yōu)異的減摩抗磨性能,同時(shí)還具有高的熱導(dǎo)率、低的介電常數(shù)、寬帶隙、良好的光學(xué)透過(guò)性以及優(yōu)異的化學(xué)惰性和較好的生物相容性等。因而DLC薄膜不僅呈現(xiàn)良好的摩擦學(xué)性能,還具有良好的耐腐蝕性能。激光Roman光譜儀研究了DLC的結(jié)構(gòu)組成。

利用ECR-PECVD技術(shù)在等離子體活化后的UHMWPE表面成功制備出一種含氫DLC薄膜。UHMWPE經(jīng)等離子體活化提高了其表面能和表面粗糙度,增強(qiáng)了與DLC間的膜基結(jié)合強(qiáng)度。DLC薄膜的沉積,進(jìn)一步提高了UHMWPE的表面硬度、表面抗擦傷能力和耐磨損能力。⑹UHMWPE表面金屬過(guò)渡層的引入,提高了DLC薄膜的沉積速率和薄膜中sp3鍵的含量,進(jìn)一步提高了UHMWPE的耐磨損性能⑺本文采用的“低溫等離子體活化/強(qiáng)化預(yù)處理+DLC薄膜沉積”的雙重表面改性技術(shù)對(duì)提高UHMWPE的耐磨性來(lái)說(shuō)將起到雙重保障作用。將該技術(shù)應(yīng)用于UHMWPE人工關(guān)節(jié)臼的表面改性具有潛在的重要應(yīng)用價(jià)值。上海英屹涂層技術(shù)有限公司引進(jìn)美國(guó)PE-CVD設(shè)備技術(shù)制備的類金剛石DLC膜層沉積速率快膜厚可達(dá)60um膜層硬度高膜層摩擦系數(shù)低小于結(jié)合力好耐腐蝕性能好優(yōu)異的耐磨性膜層具有自潤(rùn)滑性的優(yōu)點(diǎn)??梢越鉀QPVD涂層鍍不到的工件內(nèi)孔的問(wèn)題。公司涂層已經(jīng)應(yīng)用于航空機(jī)械模具電子醫(yī)療汽車發(fā)動(dòng)機(jī)部件等領(lǐng)域。真空鍍DLC膜的膜系結(jié)構(gòu)。南通表面DLC

類金剛石(DLC)膜涂層刀具的硬度高、摩擦系數(shù)低、耐摩擦和耐腐蝕性能強(qiáng)、抗粘結(jié)性能好。無(wú)錫金屬DLC工藝

20世紀(jì)70年代早期,類金剛石(DLC)涂層才見(jiàn)諸報(bào)道。工業(yè)上應(yīng)用這種涂層起源于汽車部件,如高壓柴油噴射系統(tǒng)和動(dòng)力傳動(dòng)部件。當(dāng)今,具有特殊優(yōu)勢(shì)的各種DLC涂層已在一些領(lǐng)域得到應(yīng)用。DLC涂層通常由sp3與sp2鍵的比值和氫含量來(lái)分類。當(dāng)碳元素通過(guò)sp3鍵結(jié)合,就會(huì)形成金剛石;通過(guò)sp2鍵結(jié)合,就會(huì)形成石墨。當(dāng)sp3與sp2鍵的比值增大時(shí),涂層的硬度通常會(huì)增加??稍贒LC涂層內(nèi)加入鎢(W-C∶H)之類的金屬(此處C為碳,H為氫);還可以加入其他元素如硅(Si-DLC)來(lái)改變涂層的摩擦系數(shù)或抗溫性能。一種已用于切削刀具的復(fù)合涂層為高硬度的氮化物涂層(如TiAlN)加上較軟的、具有潤(rùn)滑功能的頂層涂層(如W-C∶H)。因?yàn)榕判嫉母纳?,這種復(fù)合涂層在攻絲和鉆削應(yīng)用中顯示出優(yōu)異的效果。本文將重點(diǎn)討論一種被稱作四面體非晶碳(ta-C)的DLC涂層。無(wú)錫金屬DLC工藝

標(biāo)簽: 類金剛石 DLC 鍍鈦