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江西精密五金平面加工

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-11-18

    根據(jù)螺旋槽間距不同設(shè)置不同的磨盤轉(zhuǎn)速(假如要加工2mm間距螺旋槽,則磨盤轉(zhuǎn)速調(diào)整為40rpm),然后依次啟動(dòng)磨盤與修面機(jī),建議加工螺旋槽時(shí)修面機(jī)由磨盤中心向磨盤外圓方向運(yùn)行。“磨盤啟動(dòng)”鍵,界面將會(huì)跳回可視化運(yùn)行狀態(tài)窗口。1:選擇“自動(dòng)參數(shù)”進(jìn)入配方編輯界面,依次輸入配方名,磨盤速度,研磨時(shí)間,壓力,磨液型號(hào),然后點(diǎn)擊下載,參數(shù)將會(huì)自動(dòng)保存并下載到PLC中,按下“磨盤啟動(dòng)”鍵,界面跳回可視化運(yùn)行狀態(tài)窗口,加工到達(dá)設(shè)定的研磨時(shí)間,磨盤停止工作并報(bào)警,同時(shí)3個(gè)工位的砝碼裝置將自動(dòng)上升。2攪拌滴液系統(tǒng):由有機(jī)玻璃桶、有機(jī)玻璃蓋、減速機(jī)和攪拌桿、滴液管組成,它的工作原理是攪拌啟動(dòng)研磨液會(huì)自動(dòng)能過(guò)滴液管流到研磨盤上,根據(jù)要求可調(diào)節(jié)流量大小(具體調(diào)節(jié)見(jiàn)滴液泵說(shuō)明書)。3氣缸升降操作:工件研磨(或拋光)的壓力是由砝碼提供,其升降運(yùn)動(dòng)由氣缸實(shí)現(xiàn),每工位的氣缸單獨(dú)控制,頂架上的手動(dòng)閥和啟動(dòng)按鈕分別控制相對(duì)應(yīng)的氣缸進(jìn)行上升或下降動(dòng)作。初次操作時(shí)應(yīng)注意調(diào)整氣缸(或砝碼)的中心與產(chǎn)品冶具的中心相是否同心,使砝碼的定位止口能順利配合進(jìn)入工件冶具的定位孔。4研磨流程操作:該界面可設(shè)定多組參數(shù),滿足不同的工藝要求。

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    平面研磨拋光機(jī)中砂帶在進(jìn)行研磨軟質(zhì)材料,鋁、銅以及鋁合金、銅合金材質(zhì),加工的時(shí)候,比較容易出現(xiàn)磨屑堵塞砂帶表面的現(xiàn)象,砂帶的壽命通常會(huì)由于磨粒的脫落而出現(xiàn)結(jié)束,由于磨屑出現(xiàn)堵塞會(huì)使整個(gè)砂帶表面出現(xiàn)磨削能力下降。終磨粒失去切削作用,砂帶的接頭會(huì)出現(xiàn)堵塞而使表面產(chǎn)生異狀波紋,磨削力會(huì)以連續(xù)曲線形式會(huì)出現(xiàn)降低,出現(xiàn)堵塞也會(huì)以緩狀連續(xù)的曲線形式出現(xiàn)。造成這種平面研磨拋光機(jī)砂帶出現(xiàn)堵塞的的主要原因,是由于磨削壓力太大,砂帶磨料的選擇不合適,磨削的溫度過(guò)高,接觸輪出現(xiàn)變形過(guò)大或者是形狀誤差過(guò)大,會(huì)出現(xiàn)位置差異,以及老化變形,磨削用量的選擇不當(dāng)?shù)榷喾N因素,都會(huì)出現(xiàn)堵塞的現(xiàn)象,有正常的堵塞,過(guò)早堵塞、縱向部分堵塞、以及接頭部分的堵塞,出現(xiàn)堵塞的原因以及消除這種堵塞的方法。1、正常堵塞,是在平面研磨拋光機(jī)加工中出現(xiàn)的正常堵塞。2、過(guò)早堵塞的原因有多種,平面研磨拋光機(jī)研磨中壓力過(guò)大,需要降低壓力;砂帶的粒度使其壓力過(guò)大,也需要降低研磨壓力;對(duì)加工工件來(lái)說(shuō),選擇的砂帶粒度不合適,需要選用正確的粒度;粘膠的硬度不合適或者是出現(xiàn)老化,需要更換壓磨板;砂帶的溫度過(guò)高,需要適當(dāng)?shù)母稍铮档蜕皫囟取?江西精磨平面是什么單位濃度過(guò)小,研磨作用就很微弱。

    研磨運(yùn)動(dòng)應(yīng)該保證工件能夠均勻地接觸帶研磨拋光盤的全部表面。這樣可使其能夠表面均勻受載、均勻磨損,因而還才可以長(zhǎng)久地保持研具本身的表面精度。在研磨運(yùn)動(dòng)中,研具與工件之間應(yīng)處于還處于浮動(dòng)的狀態(tài),而不應(yīng)是強(qiáng)制的限位狀態(tài)。這樣可以使工件與研磨拋光盤的表面能夠更好地接觸,把研具表面的幾何形狀能夠準(zhǔn)確有效地傳遞給工件,從而不會(huì)受到研磨拋光機(jī)本身精度的過(guò)多影響。研磨運(yùn)動(dòng)應(yīng)保證工件受到均勻研威即被研工件表面上的每一點(diǎn)所運(yùn)動(dòng)的路程應(yīng)相等。這就需要研磨運(yùn)動(dòng)比較好能夠作平面平行運(yùn)動(dòng),而這種運(yùn)動(dòng)是能夠可使工件表面上任意兩點(diǎn)的連成線,在整個(gè)研磨運(yùn)動(dòng)中,都能夠始終保持平行,這對(duì)于保證工件的幾何形狀的精度以及尺寸均勻程度來(lái)說(shuō)是至為重要的。所選用的研磨運(yùn)動(dòng)應(yīng)使運(yùn)動(dòng)軌跡不斷有規(guī)律地改變方向,盡量避免過(guò)早地出現(xiàn)重復(fù)。這樣可以就可以使工件表面上的無(wú)數(shù)的切削條痕能夠有規(guī)律地相互交錯(cuò)抵消,慢慢的越研越平,進(jìn)而達(dá)到提高工件所要求的人表面精度的終目的。在研磨拋光機(jī)運(yùn)動(dòng)時(shí),研磨運(yùn)動(dòng)還應(yīng)該根據(jù)不同的研磨工藝要求,具體的選取比較好運(yùn)動(dòng)研磨速度。比如,當(dāng)進(jìn)行加工細(xì)長(zhǎng)的大尺寸工件的時(shí)候,需要選取低速研磨,主要是由于所得到精度更高。

    平面拋光機(jī)平臺(tái)的生產(chǎn)過(guò)程中會(huì)出現(xiàn)一些產(chǎn)品缺陷,只要采用正確的方法可以進(jìn)行工藝彌補(bǔ),鑄鐵研磨平臺(tái)工作面的缺陷是不可以忽視的重要部位,鑄鐵研磨平臺(tái)使用壽命和缺陷修復(fù)有密切的關(guān)系。所以對(duì)鑄鐵研磨平臺(tái)的缺陷做修復(fù)時(shí)要嚴(yán)格按平面拋光機(jī)所規(guī)定的工藝要求處理。另外,不銹鋼工件表面經(jīng)過(guò)平面拋光機(jī)例如焊接、沖壓、卷曲、熱處理等工藝處理之后生成一層烏黑的氧化變質(zhì)硬化層,同時(shí)平面拋光機(jī)可以處理許多肉眼看見(jiàn)和看不見(jiàn)的微小毛刺,以及銳角毛邊等。一般情況下用機(jī)械的方法很難將它們除去,影響其工件材質(zhì)本身特性的發(fā)揮。為了解決這些問(wèn)題,使用平面拋光機(jī)的各種方法對(duì)不銹鋼等金屬表面進(jìn)行研磨拋光處理。對(duì)于不同的金屬材質(zhì),不同的使用場(chǎng)合,對(duì)金屬工件表面不同的需求,必須采用不同的研磨方法或者幾種平面拋光機(jī)組合進(jìn)行研磨加工處理才能使加工工件滿足使用上的要求。 一般粗研壓力控制在0.2MPa~0.4MPa,精研壓力控制在0.04MPa~0.1MPa。

    研磨機(jī)是用涂上或嵌入磨料的研具對(duì)工件表面進(jìn)行研磨的磨床。主要用于研磨工件中的高精度平面、內(nèi)外圓柱面、圓錐面、球面、螺紋面和其他型面。用于材料的單面研磨、拋光。產(chǎn)品簡(jiǎn)介編輯研磨機(jī)是用涂上或嵌入磨料的研具對(duì)工件表面進(jìn)行研磨的磨床。主要用于研磨工件中的高精度平面、內(nèi)外圓柱面、圓錐面、球面、螺紋面和其他型面。2主要用途編輯平面研磨機(jī)廣用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。3工作原理編輯平面研磨機(jī)為精密研磨拋光設(shè)備,被磨、拋材料放于平整的研磨盤上,研磨盤逆時(shí)鐘轉(zhuǎn)動(dòng),修正輪帶動(dòng)工件自轉(zhuǎn),重力加壓或其它方式對(duì)工件施壓,工件與研磨盤作相對(duì)運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦,來(lái)達(dá)到研磨拋光目的。產(chǎn)生磨削作用的磨料顆粒有兩種來(lái)源,一種來(lái)自于不斷外加(常稱為游離磨料);另一種方法是將磨料顆粒固定在研磨盤中(常稱為固著磨料)。4保養(yǎng)方法編輯減速箱1、新減速箱使用時(shí),于運(yùn)轉(zhuǎn)300小時(shí)后需更換新油,其后每使用1500小時(shí)需更換潤(rùn)滑油,在使用過(guò)程中仍應(yīng)定期檢查油的質(zhì)量,若少油應(yīng)及時(shí)補(bǔ)加,若油有變質(zhì)、老化情況,必須即時(shí)更換。2、減速箱應(yīng)使用固定品牌,號(hào)碼之潤(rùn)滑油,一定不允許將不同品牌。

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    國(guó)內(nèi)可以生產(chǎn)多晶鉆石微粉的廠家有北京國(guó)瑞升和四川久遠(yuǎn),而國(guó)瑞升同時(shí)可以自己生產(chǎn)鉆石液,因此在品質(zhì)與成本上具有較大優(yōu)勢(shì)。美國(guó)的DiamondInnovation近推出了“類多晶鉆石”,實(shí)際是對(duì)普通單晶鉆石的一種改良,雖然比較堅(jiān)固的結(jié)構(gòu)能提供較高的切削力,但是同時(shí)也更容易造成較深的刮傷。拋光:多晶鉆石雖然造成的刮傷明顯小于單晶鉆石,但是仍然會(huì)在藍(lán)寶石表面留下明顯的刮傷,因此還會(huì)經(jīng)過(guò)一道CMP拋光,去除所有的刮傷,留下完美的表面。CMP工藝原本是針對(duì)矽基板進(jìn)行平坦化加工的一種工藝,現(xiàn)在對(duì)藍(lán)寶石基板同樣適用。經(jīng)過(guò)CMP拋光工藝的藍(lán)寶石基板在經(jīng)過(guò)層層檢測(cè),達(dá)到合格準(zhǔn)的產(chǎn)品就可以交給外延廠進(jìn)行磊晶了。芯片的背部減薄制程磊晶之后的藍(lán)寶石基板就成為了外延片,外延片在經(jīng)過(guò)蝕刻、蒸鍍、電極制作、保護(hù)層制作等一系列復(fù)雜的半導(dǎo)體制程之后,還需要切割成一粒粒的芯片,根據(jù)芯片的大小,一片2英寸的外延片可以切割成為數(shù)千至上萬(wàn)個(gè)CHIP。前文講到此時(shí)外延片的厚度在430um附近,由于藍(lán)寶石的硬度以及脆性,普通切割工藝難以對(duì)其進(jìn)行加工。目前普遍的工藝是將外延片從430um減薄至100um附近,然后再使用鐳射進(jìn)行切割。


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